[发明专利]双折射膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200780015122.6 申请日: 2007-03-09
公开(公告)号: CN101432644A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: 宫崎顺三;井上彻雄;松田祥一;长塚辰树 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 双折射 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种薄型双折射膜及其制造方法,该薄型双折射膜含有至少1种具有-SO3M基及/或-COOM基的多环化合物,且可三维性地控制折射率。

背景技术

液晶显示装置(以下称为LCD)为利用液晶分子的电光学特性而显示文字及图像的元件,广泛普及应用于移动电话及笔记型计算机、液晶电视等中。但是,LCD因利用具有光学各向异性的液晶分子,故存在以下问题:即使于某一方向显示优异的显示特性,但在另一方向画面变暗或者变得不鲜明。为解决上述问题,目前将双折射膜广泛应用于LCD中。先前,作为双折射膜之一,公开有折射指数椭圆满足nx>nz>ny关系的双折射膜(例如,参照专利文献1)。具有如此折射率关系的双折射膜是通过高分子膜两侧贴附有收缩性膜,再以沿厚度方向膨胀的方式加以延伸而制作的。因此,先前的双折射膜易于变厚,从而导致难以达成液晶显示器的薄型化。因此期望解决上述问题。

[专利文献1]日本专利特开2006-072309号公报

发明内容

本发明的目在于提供一种薄型双折射膜,其可三维性地控制折射率。

本发明者们为了解决上述问题而进行努力研究。其结果发现,可通过以下所示的双折射膜而达成上述目的,且最终完成本发明。

本发明的双折射膜,其折射指数椭圆满足nx>nz>ny的关系,并含有至少1种具有-SO3M基及/或-COOM基的多环化合物(此处,M表示抗衡离子)。

在优选的实施方式中,上述双折射膜在波长590nm处的面内双折射率(Δn[590])为0.05以上。

在优选的实施方式中,上述双折射膜的厚度为0.05μm~10μm。

在优选的实施方式中,上述双折射膜含有以下述通式(I)所表示的苊并[1,2-b]喹喔啉(acenaphtho[1,2-b]quinoxaline)衍生物。

(式中,i、j、k、l分别独立地为0~4的整数,m、n分别独立地为0~6的整数,R1、R2分别表示碳数1~6的烷基,M表示可分别相同也可不同的抗衡离子;i、j、k、l、m及n不同时为0)。

[化1]

在优选的实施方式中,上述双折射膜在波长590nm处的面内相位差值(Re[590])为20nm~1000nm。

在优选的实施方式中,上述双折射膜在波长590nm处的面内相位差值(Re[590])与厚度方向的相位差值(Rth[590])的差为10nm~800nm。

在优选的实施方式中,上述双折射膜的Nz系数为大于0且小于1。

根据本发明的其它方式,可提供一种层叠膜。该层叠膜至少具备上述双折射膜及基材。

根据本发明的其它方式,可提供一种双折射膜的制造方法。该制造方法包括以下(1)~(3)的工序:

(1)制备含有溶剂及至少1种具有-SO3M基及/或-COOM基的多环化合物(M表示抗衡离子)、且显示向列型液晶相的溶液的工序;

(2)准备至少一个表面被亲水化处理的基材的工序;

(3)在上述工序(2)中所准备的基材的经亲水化处理的表面上,涂布在上述工序(1)中所制备的溶液,且使其干燥的工序。

在优选的实施方式中,上述亲水化处理为电晕处理、等离子处理、碱处理、或结合层处理。

在优选的实施方式中,上述基材为玻璃基板或者高分子膜。

根据本发明的其它方式,可提供一种偏振板。上述偏振板至少具备上述双折射膜及偏振片。

[发明的效果]

本发明的双折射膜,因其折射指数椭圆满足nx>nz>ny的关系、且表示较高的面内双折射率,故与现有的双折射膜相比,可以非常薄的厚度获得所期望的相位差值。又,本发明的双折射膜的制造方法,为在基材上进行涂布再进行干燥的生产性优异的方法,可制作满足nx>nz>ny关系的薄型双折射膜。

具体实施方式

[A.本发明的双折射膜的概要]

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