[发明专利]具有原位监视和过程参数调谐的等离子体处理方法

权利要求书

1、一种选择等离子体掺杂过程参数的方法，其特征在于其包括：

a.确定制法参数数据库以实现至少一个等离子体掺杂结果；

b.根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数；

c.执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量；

d.使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关；以及

e.响应于所述相关而改变至少一个制法参数，以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于通过实验设计测试来确定所述制法参数数据库。

3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于通过至少一个单变量实验来确定所述制法参数数据库。

4、根据权利要求1所述的方法，其进一步包括重复所述执行所述原位测量的步骤、与所述原位测量相关的步骤以及改变所述至少一个制法参数的步骤，直到实现所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度的所需改进为止。

5、根据权利要求4所述的方法，其特征在于将所述初始制法参数选择为有效收敛于导致所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度的所述所需改进的制法参数的制法参数。

6、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述执行所述原位测量包括执行以下至少之一：光学发射光谱测定、飞行时间分析、质量分析、中性组分分析、离子能量分析、剂量分析和等离子体特性分析。

7、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度包括等离子体掺杂工具处理量。

8、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度包括等离子体掺杂剂量。

9、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度包括等离子体掺杂均匀性。

10、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述至少一个等离子体掺杂过程性能量度包括等离子体区角分布。

11、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述响应于所述相关而改变所述至少一个制法参数优化了至少一个等离子体掺杂过程性能量度。

12、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述响应于所述相关而改变所述至少一个制法参数优化了至少两个等离子体掺杂过程性能量度。

13、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与所述至少一个等离子体掺杂结果相关包括与分析模型相关。

14、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与所述至少一个等离子体掺杂结果相关包括与统计模型相关。

15、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与所述至少一个等离子体掺杂结果相关包括与来自实验设计测试的数据相关。

16、根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与所述至少一个等离子体掺杂结果相关包括与来自单变量测试结果的数据相关。

17、一种优化至少一个等离子体掺杂过程参数的方法，其特征在于其包括：

a.确定制法参数数据库以优化至少一个等离子体掺杂结果；

b.根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数；

c.执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量；

d.使所述至少一个等离子体掺杂条件的所述原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关；

e.响应于所述相关而改变至少一个制法参数，以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度；以及

f.重复所述执行所述原位测量的步骤、与所述原位测量相关的步骤以及改变所述至少一个制法参数的步骤，直到优化至少一个等离子体掺杂过程性能量度为止。

18、根据权利要求17所述的方法，所述执行所述原位测量包括执行以下至少一者：光学发射光谱测定、飞行时间分析、质量分析、中性组分分析、离子能量分析、剂量分析和等离子体特性分析。