[发明专利]清洁处理装置、清洁处理方法、图案形成装置和图案形成方法无效
申请号: | 200780015630.4 | 申请日: | 2007-02-22 |
公开(公告)号: | CN101432666A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | 饭田敦子;齐藤三长;石井浩一;高桥健;田岛义浩;真常泰;田代重幸;广泽大二 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G03G21/10 | 分类号: | G03G21/10;G03G15/05;B41F35/02;B41M1/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 方晓虹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 处理 装置 方法 图案 形成 | ||
1.一种清洁处理装置,对使显影剂粒子凝聚在图案状的凹部内并向被转印介质转印之后的凹版进行清洁处理,其特征在于,具有:
对所述凹部供给清洁液的供给装置、以及
将残留在所述凹部内的显影剂粒子与由所述供给装置供给的清洁液一起除去的除去装置。
2.如权利要求1所述的清洁处理装置,其特征在于,所述供给装置具有将所述清洁液朝所述凹部喷出的双流体喷嘴或单流体喷嘴。
3.如权利要求2所述的清洁处理装置,其特征在于,所述供给装置具有对所述双流体喷嘴或单流体喷嘴喷出所述清洁液的喷出角度进行调节的调节机构。
4.如权利要求1所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置具有:与所述凹部的开口接触的多孔部件、以及在该多孔部件的表面上产生负压的负压装置。
5.如权利要求4所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置包括在外周具有所述多孔部件的除去辊,使该除去辊旋转并与所述凹部滑动接触,利用所述负压装置通过所述除去辊的转轴在除去辊的周面上产生负压。
6.一种清洁处理装置,装入在图案形成装置内,该图案形成装置对具有图案状的凹部的凹版供给使带电的显影剂粒子分散在绝缘液体中而形成的液体显影剂,对所述凹部附近作用电场来使所述液体显影剂中的显影剂粒子凝聚在所述凹部内,并对聚集在该凹部内的显影剂粒子作用电场来使其向被转印介质进行转印,所述清洁处理装置对所述转印后的凹部进行清洁处理,其特征在于,具有:
对所述凹部供给清洁液的供给装置、以及
将残留在所述凹部内的显影剂粒子与由所述供给装置供给的清洁液一起除去的除去装置。
7.如权利要求6所述的清洁处理装置,其特征在于,所述供给装置具有将所述清洁液朝所述凹部喷出的双流体喷嘴或单流体喷嘴。
8.如权利要求7所述的清洁处理装置,其特征在于,所述供给装置具有对所述双流体喷嘴或单流体喷嘴喷出所述清洁液的喷出角度进行调节的调节机构。
9.如权利要求7所述的清洁处理装置,其特征在于,所述供给装置还具有使所述双流体喷嘴或单流体喷嘴喷出所述清洁液的喷出角度产生变动的变动机构。
10.如权利要求7所述的清洁处理装置,其特征在于,所述清洁液是构成所述液体显影剂的绝缘液体。
11.如权利要求6所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置具有:与所述凹部的开口接触的多孔部件、以及在该多孔部件的表面上产生负压的负压装置。
12.如权利要求11所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置包括在外周具有所述多孔部件的除去辊,使该除去辊旋转并与所述凹部滑动接触,利用所述负压装置通过所述除去辊的转轴在除去辊的周面上产生负压。
13.如权利要求12所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去辊的多孔部件由具有导电性的材料形成,通过在所述多孔部件与所述凹部之间作用电场来吸附所述带电的显影剂粒子。
14.如权利要求12所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置还具有将附着在所述除去辊上的显影剂粒子刮下的叶片。
15.如权利要求14所述的清洁处理装置,其特征在于,所述叶片由具有导电性的材料形成,通过在所述叶片与所述除去辊之间形成电场来吸附附着在该除去辊上的显影剂粒子。
16.如权利要求13所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置还具有与所述除去辊滚动接触的清洁辊,通过在所述除去辊与清洁辊之间形成电场,使附着在所述除去辊上的显影剂粒子附着到所述清洁辊的周面上。
17.如权利要求16所述的清洁处理装置,其特征在于,所述除去装置还具有将附着在所述清洁辊的周面上的显影剂粒子刮下的叶片。
18.如权利要求17所述的清洁处理装置,其特征在于,所述叶片由具有导电性的材料形成,通过在所述叶片与所述清洁辊之间形成电场来吸附附着在该清洁辊的周面上的显影剂粒子。
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