[发明专利]含锂过渡金属氧化物靶及其制造方法以及锂离子薄膜二次电池

权利要求书

1.一种含锂过渡金属氧化物靶，其为用于形成锂离子二次电池用 薄膜的溅射靶，由晶系为六方晶系的含锂过渡金属氧化物的烧结体构 成，其中，烧结体的相对密度为90％以上、平均结晶粒径为1μm以上、 50μm以下。

2.如权利要求1所述的含锂过渡金属氧化物靶，其中，通过使用 Cu Kα射线的X射线衍射测得的(003)面、(101)面、(104)面的强度比满 足下述条件：

(1)(101)面相对于(003)面的峰值比为0.4以上、1.1以下；

(2)(101)面相对于(104)面的峰值比为1.0以上。

3.如权利要求1或2所述的含锂过渡金属氧化物靶，其中，过渡 金属选自Ni、Co、Mn中的至少一种。

4.一种制造含锂过渡金属氧化物靶的方法，所述靶用于形成锂离 子二次电池用薄膜，在所述方法中，使作为前驱体的含锂过渡金属盐 的Li/过渡金属的摩尔比为1.1以上、1.3以下，将其在800～1100℃的 氧化处理温度下氧化而生成晶系为六方晶系的含锂过渡金属氧化物， 将该含锂过渡金属氧化物成型、并以高于所述氧化处理温度150～250 ℃的烧结温度进行烧结，制造相对密度为90％以上、平均结晶粒径为 1μm以上、50μm以下的烧结体。

5.如权利要求4所述的制造含锂过渡金属氧化物靶的方法，其中， 通过使用Cu Kα射线的X射线衍射测得的(003)面、(101)面、(104)面的 强度比满足下述条件：

(1)(101)面相对于(003)面的峰值比为0.4以上、1.1以下；

(2)(101)面相对于(104)面的峰值比为1.0以上。

6.如权利要求4或5所述的制造含锂过渡金属氧化物靶的方法， 其中，过渡金属选自Ni、Co、Mn中的至少一种。

7.一种制造锂离子二次电池用薄膜的方法，通过溅射权利要求 1～3中任一项所述的含锂过渡金属氧化物靶，使含锂过渡金属氧化物 成为正极活性物质。