[发明专利]半导体陶瓷组分及其生产方法无效

专利信息
申请号: 200780016953.5 申请日: 2007-10-26
公开(公告)号: CN101443289A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 岛田武司;田路和也 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C04B35/46 分类号: C04B35/46;H01C7/02
代理公司: 北京泛诚知识产权代理有限公司 代理人: 杨本良;文 琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 陶瓷 组分 及其 生产 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有正向电阻温度的半导体陶瓷组分,其用于PTC热敏电阻、PTC加热器、PTC开关、温度检测器等,以及涉及一种用于生产该半导体陶瓷组分的方法。

背景技术

通常,作为显示出PTCR特性(正的电阻率温度系数)的材料,按常例已提出了其中将各种半导体掺杂剂添加到BaTiO3的组分(参见,专利文献1)。这些组分具有约120℃的居里温度。取决于用途,这些组分需要改变居里温度。

已经提出了,通过添加例如SrTiO3到包含Sb2O3和Nb2O3的BaTiO3来改变居里温度(参见,专利文献2)。但是,在此情况下,居里温度仅仅在负向上改变,而在正向上不改变。目前,仅仅PbTiO3被认为是用于在正向上改变居里温度的添加元素(参见,专利文献3)。但是,由于PbTiO3包含引起环境污染的元素,近年来需要使用没有PbTiO3的材料。

在BaTiO3半导体陶瓷中,提出了通过将Nb、Ta和稀土元素的一种或多种添加到具有Ba1-2x(BiNa)xTiO3的结构的组份,其中不使用PbTiO3的BaTiO3中的部分Ba被Bi-Na所代替,并且x被控制在0<x≤0.15的范围内,在氮气中烧结该组分,然后在氧化气氛中使该组分经历热处理,从而生产BaTiO3半导体陶瓷的方法(参见,专利文献4)。

在其中部分Ba被Bi-Na代替的系统中控制该组分的原子价的情况下,当三价阳离子被添加作为半导体掺杂剂时,由于单价Na离子的存在,产生半导体效果被减小和室温下的电阻率增加的问题。在专利文献4中公开了,例如,通过添加作为半导体掺杂剂的0.1mol%的Nd2O3到Ba1.2x(BiNa)xTiO3(0<x≤0.15)所获得的组分,但是该数量不是能实现用于PTC应用的足够半导电性的数量。

为了解决BaTiO3半导体陶瓷组分的常规问题,本发明人提出了由公式[(Al0.5A20.5)x(Ba1-yQy)]TiO3表示的半导体陶瓷组分(其中Al是Na、K和Li的一种或两种或多种,A2是Bi,以及Q是La、Dy、Eu和Gd的一种或两种或多种),其中x和y每个满足0<x≤0.2,0.002≤y≤0.01(参见专利文献5),作为能在正向上改变居里温度,并且大大地减小室温下的电阻率而不使用Pb的半导体陶瓷组分。

专利文献1:JP-B-51-41440

专利文献2:JP-B-8-22773

专利文献3:JP-B-62-58642

专利文献4:JP-A-56-169301

专利文献5:JP-A-2005-255493

发明内容

本发明欲解决的问题

尽管上述常规组分包含诸如La的稀土元素或诸如Sb和Nb的四价元素作为半导体掺杂剂,但是这种半导体掺杂剂的添加,特别地,三价稀土元素,导致在其中部分Ba被Bi-Na代替的不包含Pb的组分中,在煅烧或烧结时,在Bi(三价)点中混合稀土元素,由此原子价的控制变得困难,同时,引起载流子浓度的分散,即,电阻。

此外,上述常规组分是,在煅烧之前,通过混合构成该组分的所有元素的开始材料,接着进行煅烧、成形、烧结以及热处理而制造的组分。特别,在专利文献4和5中公开的其中部分Ba被Bi-Na所代替的不包含Pb的组分中,在煅烧步骤过程中Bi挥发,以及Bi-Na中发生组分偏差,由此不同阶段的成形被加速,以及室温下的电阻率增加以及引起居里温度的波动。

可以认为,在低温下执行煅烧是为了限制Bi的挥发。但是,尽管通过该方法确定地限制Bi的挥发,但是不能形成完全的固溶液,以及不能获得希望的性能。

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