[发明专利]没有危险的散装材料分析器系统

权利要求书

1.一种用于处理散装材料的系统，包括：

将散装材料的流从第一处理位置运送至第二处理位置的至少一个 传送设备；

将白光投射到该流的表面上的照明源；

捕获由该流反射的散装材料的光谱特征的至少一个分光计；以及

控制单元，该控制单元与分光计通信，并接收由分光计捕获的光谱 特征；

其中控制单元与每一个均包括至少一个操作设置的工艺设备或传 送设备通信，并且传送指令给工艺设备或传送设备，以改变操作设置。

2.权利要求1的系统，其中照明源将光投射到固定位置上，其中 该流的表面通过该固定位置。

3.权利要求1的系统，其中光谱特征指示散装材料对光的发射， 反射和吸收。

4.权利要求1的系统，其中控制单元分析由分光计进行的测量。

5.权利要求4的系统，其中控制单元查询包括存储的光谱特征的 数据库，并且将测量的光谱特征与存储的光谱特征相比较。

6.权利要求5的系统，其中控制单元确定测量的光谱特征是否在 可接受的制造公差内。

7.权利要求1的系统，其中该操作设置控制所述散装材料与第二 源组合的方式。

8.权利要求1的系统，其中该操作设置控制所述散装材料或第二 源被分配的速率。

9.权利要求1的系统，其中该操作设置控制所述散装材料或第二 源被传送的速率。

10.权利要求1的系统，其中该操作设置控制是否激活工艺设备或 者传送设备。

11.权利要求1的系统，其中用于处理散装材料的系统进一步包括： 分配散装材料的流的至少一个散装材料分配器；传送散装材料分配器分 配的该散装材料的流的至少一个传送设备；以及将该散装材料的流从第 一材料变更到第二材料的至少一个工艺设备。

12.权利要求11的系统，其中该至少一个工艺设备混合或研磨该 散装材料的流。

13.权利要求11的系统，其中该至少一个工艺设备分配与该散装 材料的流组合的第三材料。

14.权利要求11的系统，其中该至少一个工艺设备热加热该散装 材料的流。

15.权利要求11的系统，其中该至少一个传送设备将第一材料传 送至该至少一个工艺设备。

16.权利要求15的系统，其中该至少一个分光计捕获由该至少一 个传送设备上的第一材料反射的光。

17.权利要求11的系统，其中第二传送设备传送由该至少一个工 艺设备分配的第二材料。

18.权利要求17的系统，其中该至少一个分光计捕获由该第二传 送设备上的第二材料反射的光。

19.权利要求1的系统，其中该至少一个分光计包括每一个都捕获 由该流反射的光的第一分光计和第二分光计。

20.权利要求19的系统，其中第一分光计捕获的光对应于第一频 率范围，并且第二分光计捕获的光对应于第二频率范围。

21.权利要求1的系统，其中该至少一个传送设备是传送带。

22.权利要求1的系统，其中第二处理位置将散装材料从第一材料 变更至第二材料。

23.权利要求1的系统，其中第一处理位置将散装材料分配到传送 带上。

24.一种用于处理散装材料的方法，包括：将至少一种散装材料从 第一处理位置流传送至第二处理位置；将白光投射到该流的表面之上； 捕获由该流反射的光；为了散装材料的光谱特征而分析由该流反射的 光；以及指示工艺设备或传送设备改变操作设置。

25.权利要求24的方法，其中捕获由该流反射的光的步骤是周期 性的。