[发明专利]奥氏体系不锈钢及其除氢方法无效

专利信息
申请号: 200780017282.4 申请日: 2007-10-05
公开(公告)号: CN101443469A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 村上敬宜;松冈三郎;峯洋二;金崎俊彦 申请(专利权)人: 独立行政法人产业技术综合研究所
主分类号: C22C38/00 分类号: C22C38/00;C21D6/00;C21D3/06;C22C38/58
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蒋 亭;苗 堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 奥氏体 不锈钢 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种奥氏体系不锈钢,其特征在于,具有晶体结构为面心立方晶格 结构的奥氏体相,

所述奥氏体系不锈钢的构成成分以质量%计为C:0.08以下、Ni:8.00~ 27.00、Cr:13.50~26.00、以及其余为铁和不可避免的杂质,

将所述奥氏体系不锈钢在200℃以上的加热温度及氩气气氛的条件下 进行加热处理,除去成为所述奥氏体系不锈钢的氢脆性原因的扩散性氢和 非扩散性氢,使所述奥氏体系不锈钢中含有的氢(H)除去至0.00007质 量%以下,即,0.7质量ppm以下,

所述扩散性氢是指存在于所述奥氏体系不锈钢中的氢,在室温下随 时间而从所述奥氏体系不锈钢中逸出的氢,

所述非扩散性氢是指存在于所述奥氏体系不锈钢中的氢,即使在室 温至200℃的温度下也不随时间从所述奥氏体系不锈钢中逸出的氢。

2.根据权利要求1所述的奥氏体系不锈钢,其特征在于,所述扩散性 氢和非扩散性氢是在5Hz以下的频率的负荷时成为所述奥氏体系不锈钢的 氢脆性原因的氢。

3.根据权利要求2所述的奥氏体系不锈钢,其特征在于,除去所述扩 散性氢和所述非扩散性氢,使所述氢(H)成为0.00004质量%以下,即, 0.4质量ppm以下。

4.根据权利要求3所述的奥氏体系不锈钢,其特征在于,除去所述扩 散性氢和所述非扩散性氢,使所述氢(H)成为0.00001质量%以下,即, 0.1质量ppm以下。

5.根据权利要求1所述的奥氏体系不锈钢,其特征在于,所述加热温 度是200℃~500℃的温度。

6.根据权利要求3所述的奥氏体系不锈钢,其特征在于,所述加热温 度是200~500℃的温度。

7.一种奥氏体系不锈钢的除氢方法,是用于加热处理具有晶体结构为 面心立方晶格结构的奥氏体相的奥氏体系不锈钢,除去所述奥氏体系不锈 钢内存在的氢的热处理方法,所述奥氏体系不锈钢的构成成分以质量%计 为C:0.08以下、Ni:8.00~27.00、Cr:13.50~26.00、以及其余为铁和 不可避免的杂质,其特征在于,在加热温度200℃以上及氩气气氛的条件 下加热所述奥氏体系不锈钢,使所述奥氏体系不锈钢中的扩散性氢和非 扩散性氢的量除去至0.00007质量%以下,即,0.7质量ppm以下,

所述扩散性氢是指存在于所述奥氏体系不锈钢中的氢,在室温下随 时间而从所述奥氏体系不锈钢中逸出的氢,

所述非扩散性氢是指存在于所述奥氏体系不锈钢中的氢,即使在室 温至200℃的温度下也不随时间从所述奥氏体系不锈钢中逸出的氢。

8.根据权利要求7所述的奥氏体系不锈钢的除氢方法,其特征在于, 所述扩散性氢和非扩散性氢是在5Hz以下的频率的负荷时成为所述奥氏体 系不锈钢的氢脆性原因的氢。

9.根据权利要求7所述的奥氏体系不锈钢的除氢方法,其特征在于, 所述加热温度是200~500℃的温度,除去所述扩散性氢和所述非扩散性 氢,使所述奥氏体系不锈钢中含有的氢(H)成为0.00007质量%以下, 即,0.7质量ppm以下,所述扩散性氢和所述非扩散性氢存在于所述奥 氏体系不锈钢中、介由循环荷重造成的加工诱发马氏体相而扩散、集结 于承受应力集中的裂纹部、成为所述奥氏体系不锈钢的氢脆性的原因。

10.根据权利要求7所述的奥氏体系不锈钢的除氢方法,其特征在于, 在比敏化温度低的200~500℃的温度下将所述奥氏体系不锈钢保持460 小时以下的时间,所述敏化温度是所述奥氏体系不锈钢的铬(Cr)碳化 物因加热而析出的温度,

除去成为所述奥氏体系不锈钢的氢脆性的原因的所述扩散性氢和 所述非扩散性氢,使所述奥氏体系不锈钢中含有的所述氢(H)成为 0.00004质量%以下,即,0.4质量ppm以下。

11.根据权利要求9所述的奥氏体系不锈钢的除氢方法,其特征在于, 使所述奥氏体系不锈钢中含有的所述氢(H)成为0.00001质量%以下, 即,0.1质量ppm以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于独立行政法人产业技术综合研究所,未经独立行政法人产业技术综合研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780017282.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top