[发明专利]光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法

权利要求书

1.一种具有至少一个带有光学有效的表面起伏微观结构(12)的表面区域的元件，该表面起伏微观结构具有从顶部区域(13)到底部区域(14)以及从底部区域(14)到顶部区域(13)的过渡区的表面调制，

其特征在于，在所述表面区域的第一横向上，每20微米内具有至少一个从顶部区域(13)到底部区域(14)或者从底部区域(14)到顶部区域(13)的过渡区，而在所述表面区域的垂直于所述第一横向的第二横向上，每200微米具有至少一个从顶部区域到底部区域或者从底部区域到顶部区域的过渡区，

其中，

(i)至少在所述第一横向上，所述过渡区的横向布置是非周期性的，以及

(ii)所述顶部区域(13)基本位于顶部起伏平稳段(15；51)中，所述底部区域(14)基本位于底部起伏平稳段(16；52)中，使得起伏调制深度在所述表面区域上基本相同，以及

(iii)所述表面起伏微观结构(12)是各向异性的，以及

(iv)表面起伏纵横比在1.1至50的范围内。

2.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，在所述表面区域的至少一个横向上，从顶部区域(13)到底部区域(14)或者从底部区域(14)到顶部区域(13)的相邻过渡区之间的平均横向距离在从0.2微米到10微米的范围内。

3.根据权利要求2所述的元件，其特征在于，相邻过渡区之间的平均横向距离在从0.2微米到5微米的范围内。

4.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述表面起伏纵横比大于2。

5.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述表面起伏纵横比大于5。 

6.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述表面起伏纵横比小于20。

7.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，在所述表面区域的所述第二横向上，每100微米内具有至少一个从顶部区域到底部区域或者从底部区域到顶部区域的过渡区。

8.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，在所述表面区域的所述第二横向上，每50微米内具有至少一个从顶部区域到底部区域或者从底部区域到顶部区域的过渡区。

9.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，光学调制深度定义为起伏调制深度和填充表面调制的材料折射率之积，该光学调制深度在从100纳米到1000纳米的范围内。

10.根据权利要求9所述的元件，其特征在于，所述光学调制深度在从100纳米到500纳米的范围内。

11.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，该元件具有表面起伏填充因子，该表面起伏填充因子在从0.2到0.8的范围内。

12.根据权利要求11所述的元件，其特征在于，所述表面起伏填充因子在从0.3到0.7的范围内。

13.根据权利要求11所述的元件，其特征在于，所述表面起伏填充因子在从0.4到0.6的范围内。

14.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述元件具有带有光学有效的表面起伏微观结构的多个表面区域的图案。

15.根据权利要求14所述的元件，其特征在于，所述图案包括至少两种如下表面区域，即具有各向异性方向取向不同的各向异性表面起伏微观结构的表面区域。

16.根据权利要求14所述的元件，其特征在于，所述图案包括至少两种如下表面区域，即具有光学调制深度不同的表面起伏微观结构的表面区域。

17.根据权利要求14所述的元件，其特征在于，所述图案表示图像。 

18.根据权利要求14所述的元件，其特征在于，所述图案表示图像的一部分。

19.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述表面起伏微观结构涂覆有反射材料。

20.根据权利要求1所述的元件，其特征在于，所述表面起伏微观结构涂覆有介电材料层。