[发明专利]通过改变原始表面的组成制备功能化玻璃表面的方法

权利要求书

1.光泽表面的改性方法，包括以下步骤：

-制备纳米颗粒；

-在表面上沉积所述纳米颗粒；

-为该颗粒和/或表面提供能量以致该纳米颗粒至少部分地扩散/ 溶解到该光泽表面中，其特征在于在该纳米颗粒的制备期间或在该纳 米颗粒的制备之后降低该纳米颗粒的内聚能。

2.权利要求1的方法，其特征在于所述纳米颗粒具有小于1000nm， 优选小于100nm的空气动力学直径。

3.权利要求1的方法，其特征在于所述纳米颗粒具有小于10nm 的直径。

4.权利要求1的方法，其特征在于该纳米颗粒是金属氧化物并且 通过用降低该金属氧化物熔融温度的元素或化合物掺杂该金属氧化物 来降低该内聚能。

5.权利要求1的方法，其特征在于该纳米颗粒是金属氧化物并且 通过使该氧化物成为非化学计量来降低该内聚能。

6.权利要求1的方法，其特征在于该纳米颗粒是金属氧化物并且 通过制备具有与实心、球形金属氧化物纳米颗粒不同密度的纳米颗粒 来降低该内聚能。

7.权利要求1的方法，其特征在于通过制备无定形的纳米颗粒来 降低该纳米颗粒的内聚能。

8.权利要求1的方法，其特征在于通过在该纳米颗粒中或/和上产 生缺陷来降低该纳米颗粒的内聚能。

9.权利要求8的方法，其特征在于通过用电离或非电离辐射辐射 该纳米颗粒来产生缺陷。

10.权利要求1的方法，其特征在于将该方法在浮法玻璃制造期间 应用于浮法玻璃，其中该玻璃表面温度是500-1000℃。

11.权利要求1的方法，其特征在于将该方法在平板玻璃加工期间 应用于平板玻璃，其中该玻璃表面温度是500-1000℃。

12.权利要求1的方法，其特征在于将该方法在容器玻璃制造过程 期间应用于容器玻璃，其中该玻璃表面温度是500-1000℃。

13.权利要求1的方法，其特征在于将该方法在烧制过程期间应用 于上釉磁砖制造，其中该上釉瓷砖表面温度是500-1000℃。

14.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于表面染色玻璃的 生产。

15.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于改进玻璃的化学 耐久性。

16.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于改进玻璃的表面 硬度。

17.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于改进玻璃的强 度。

18.权利要求1的方法，其中该方法应用于制备玻璃中的碱扩散的 阻隔层。

19.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于制备玻璃上的光 催化表面。

20.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于制备玻璃上的用 于改进对玻璃的粘附的层。

21.权利要求1的方法，其特征在于该方法应用于制备玻璃上的透 明传导性氧化物层。

22.权利要求1的方法，其特征在于通过蒸气-路线、液体-路线、 固体-路线或结合的路线制备该纳米颗粒。