[发明专利]VPE反应器的源容器

权利要求书

1.VPE沉积装置的源装置，包括：含有液态或固态起始材料(1) 并具有顶部开口的容器(2)；用于反应气体(4)的供应管线(3)，所述 反应气体(4)与起始材料(1)反应以产生含有该起始材料的工艺气体(5)； 以及直接置于该起始材料(1)上的盖子(6)，其特征在于，所述盖子(6) 在其本身和所述起始材料(1)的表面(7)之间限定了体积(8)，所述反 应气体(4)能平行于所述表面(7)流过该体积(8)，并且供应管线(3) 通向该体积(8)，其中盖子下面与起始材料表面之间的间隔随时间保持恒 定并且独立于源内液体或固体的表面高度，所述盖子具有向下突出的漂浮 物或载体，该漂浮物或载体由圆柱形中空体形成，该中空体在顶部敞开。

2.根据权利要求1的源装置，其特征在于，所述盖子(6)漂浮在所 述起始材料(1)上。

3.根据权利要求1的源装置，其特征在于，所述反应气体从径向流 过所述体积(8)。

4.根据权利要求1的源装置，其特征在于，所述盖子(6)的边缘 (10)与容器壁(11)有间隙，所形成的工艺气体(5)流过该间隙(12)。

5.根据权利要求1的源装置，其特征在于，供应管线出口(14)从 下面突出进入所述盖子(6)的中心穹顶(13)，以此所述盖子(6)覆盖 中心供应管线(3)。

6.根据权利要求1的源装置，其特征在于，所述容器(2)和所述 盖子(6)由石英、石墨、氮化硼或青玉组成。

7.VPE沉积设备，包括工艺室(21)和布置在工艺气体流动方向上 游的源区，在所述源区中，有用于反应气体(4)的供应管线(3)和含有 液态或固态起始材料(1)并具有顶部开口的容器(2)，其特征在于，盖 子(6)直接置于该起始材料(1)上且在其本身和表面(7)之间限定了 该反应气体流过的体积(8)，其中盖子下面与起始材料表面之间的间隔随 时间保持恒定并且独立于源内液体或固体的表面高度。

8.根据权利要求7的VPE沉积设备，其特征在于，所述反应气体与 起始材料反应以产生工艺气体，以及该工艺气体垂直流过源区。

9.根据权利要求7的VPE沉积设备，其特征在于，所述源区垂直设 置在所述工艺室之上。

10.根据权利要求8的VPE沉积设备，其特征在于，所述源区垂直 设置在所述工艺室之上。

11.根据权利要求7到10中任一项的VPE沉积设备，其特征在于， 所述源区具有源区加热器(16)并且所述工艺室(21)具有工艺室加热器 (25)。

12.根据权利要求7到10中任一项的VPE沉积设备，其特征在于， 基本上旋转对称的工艺室(21)和与该工艺室(21)的中心相连的源区， 由工艺室(21)容纳的基材(22)设置在该工艺室(21)的中心周围。

13.根据权利要求11的VPE沉积设备，其特征在于，基本上旋转对 称的工艺室(21)和与该工艺室(21)的中心相连的源区，由工艺室(21) 容纳的基材(22)设置在该工艺室(21)的中心周围。