[发明专利]超导薄膜材料以及超导薄膜材料的制造方法无效
| 申请号： | 200780018133.X | 申请日： | 2007-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN101449340A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 母仓修司;大松一也 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | H01B12/06 | 分类号： | H01B12/06;H01B13/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 林月俊;安 翔 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 超导 薄膜 材料 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种超导薄膜材料(10，20)，包括：
基底(11)；
形成在所述基底上的中间层(12)，所述中间层(12)由一层或至少两层构成；以及
形成在所述中间层(12)上的超导层(13)，
所述中间层(12)具有不小于0.4μm的厚度。
2.根据权利要求1所述的超导薄膜材料(10，20)，其中，
用于形成所述中间层(12)的材料是具有晶体结构的氧化物，所述晶体结构为石岩型、荧石型、钙钛矿型和烧绿石型的至少一种。
3.根据权利要求1所述的超导薄膜材料(10，20)，其中，
用于形成所述基底(11)的材料是各向异性金属，并且
用于形成所述中间层(12)的材料包括氧化钇稳定氧化锆、氧化铈、氧化镁和钛酸锶中的至少一种。
4.一种制造根据权利要求1所述的超导薄膜材料(10，20)的方法，包括以下步骤：
制备所述基底(11)(S10)；
在所述基底(11)上形成中间层(12)(S20)，所述中间层(12)由一层或至少两层构成，并且具有不小于0.4μm的厚度；以及
通过气相沉积法和液相沉积法中的至少一种在所述中间层(12)上形成所述超导层(13)(S30)。
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