[发明专利]利用辐射能量的组织体的处理

权利要求书

1.一种用于处理组织体的设备，包括

EMR源，配置用于传输EMR至组织表面；

控制器，电连接至所述EMR源并配置用于提供至少一个控制信号至所述EMR源；

其中所述EMR源被配置用于响应于所述控制器发射至少第一水平的通量和第二水平的通量，所述第一和第二水平的通量对应于组织的表面以下的第一和第二穿透深度。

2.权利要求1所述的设备，其中所述控制器包括与所述EMR源电通信的调整器以控制所述第一和第二水平的通量。

3.权利要求1所述的设备，还包括用于接触所述组织表面的冷却表面，所述冷却表面配置用于在所述设备的操作期间当与所述组织表面接触时冷却所述组织。

4.权利要求1所述的设备，还包括配置用于使EMR通过的窗口。

5.权利要求4所述的设备，其中所述窗口还包括用于接触所述组织表面的冷却表面，所述冷却表面配置用于在所述设备的操作期间当与所述组织表面接触时冷却所述组织。

6.权利要求4所述的设备，其中所述窗口具有比大约49cm²大的辐射通过面积。

7.权利要求4所述设备，其中所述窗口被配置用于提供可变的辐射通过面积。

8.权利要求1所述的设备，还包括配置用于使辐射通过至所述组织的孔。

9.权利要求8所述的设备，其中所述孔具有直径比大约7cm大的开口。

10.权利要求8所述的设备，其中所述孔被配置具有可变的尺寸。

11.权利要求1所述设备，其中所述设备是手持设备。

12.权利要求1所述设备，其中所述设备是消费产品。

13.权利要求1所述的设备，还包括反馈传感器，配置用于在操作中提供反馈信号；

其中所述控制器电连接至所述反馈传感器机构并且配置用于基于从所述反馈传感器获得的所述信息发出所述控制信号。

14.权利要求13所述的设备，其中所述反馈传感器是温度传感器。

15.权利要求14所述的设备，其中所述温度传感器被配置用于在操作期间测量被处理的所述组织的温度。

16.权利要求13所述的设备，其中所述反馈传感器是光学多普勒传感器，配置用于测量在被处理的所述组织中的血液的流动。

17.权利要求1所述的设备，其中所述EMR源被配置用于提供大约0.1和10瓦/cm²之间的输入通量。

18.权利要求1所述的设备，其中所述设备配置具有大于40瓦的总系统功率。

19.权利要求1所述的设备，其中所述设备配置具有大于80瓦的总系统功率。

20.权利要求1所述的设备，其中所述源配置用于提供最低有效剂量的EMR至达到大约50mm的组织深度。

21.权利要求1所述的设备，其中所述源配置用于提供最低有效剂量的EMR至达到大约20mm的组织深度。

22.权利要求1所述的设备，其中所述源配置用于提供最低有效剂量的EMR至达到大约10mm的组织深度。

23.权利要求1所述的设备，其中所述控制器包括存储设备和处理器。

24.权利要求23所述的设备，还包括输入传感器，其中所述控制器使用来自所述输入传感器的输入数据推导处理参数。

25.权利要求23所述的设备，还包括至少一个与所述控制器电通信的反馈传感器，并且其中所述控制器配置用于基于所述传感器数据计算至少一个处理参数。

26.权利要求1所述的设备，其中所述控制器包括包含关于处理参数的信息的查找表。

27.权利要求1所述的设备，其中所述控制器配置用于使用间歇脉冲调整由所述源发射的所述EMR的辐照度。

28.权利要求1所述的设备，其中所述源还包括光学元件，配置用于提供入射在所述组织的表面上的EMR的可调面积。