[发明专利]用于电子照相印花法的涂覆有马来酸共聚物的基材无效
申请号: | 200780019129.5 | 申请日: | 2007-05-16 |
公开(公告)号: | CN101454726A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | H·施泰因;R·埃特尔;H·P·贝尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | G03G7/00 | 分类号: | G03G7/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 刘金辉;黄革生 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电子 照相 印花 涂覆有 马来 共聚物 基材 | ||
1.一种在基材上印花的方法,其中使用一种组合物预处理所述基材, 所述组合物包含由烯键式不饱和化合物(单体)的自由基聚合获得的聚合物 (以下简称为聚合物),并且至少1重量%的所述单体为具有两个羧基(二羧 酸)或二羧酸酐基团的单体(以下简称为酸酐单体)。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述酸酐单体为马来酸或马来酸酐 (简称MAA)。
3.如权利要求1和2任意一项所述的方法,其中所述聚合物包含2-80 重量%的酸酐单体。
4.如权利要求1-3任意一项所述的方法,其中所述聚合物包含20-80 重量%的酸酐单体。
5.如权利要求1-4任意一项所述的方法,其中所述聚合物包含单体(b), 其选自(甲基)丙烯酸C1-C20烷基酯、包含至多20个碳原子的羧酸的乙烯 基酯、具有至多20个碳原子的乙烯基芳族化合物、烯键式不饱和腈、乙烯 基卤、包含1-10个碳原子的醇的乙烯基醚、具有至少2个碳原子和一个或 二个双键的脂族烃或者这些单体的混合物。
6.如权利要求1-5任意一项所述的方法,其中所述聚合物由以下物质 组成:
2-80重量%的酸酐单体(a)
40-98重量%的单体(b)和
0-30重量%的其它单体(c)。
7.如权利要求1-6任意一项所述的方法,其中所述聚合物为乙烯/MAA 共聚物,其包含5-55mol%,特别优选20-55mol%并且非常特别优选 45-55mol%的MAA。
8.如权利要求1-7任意一项所述的方法,其中所述聚合物以水分散体 或水溶液的形式存在。
9.如权利要求1-8任意一项所述的方法,其中除了所述聚合物之外, 所述组合物还包含淀粉。
10.如权利要求1-9任意一项所述的方法,其中基于100重量份的聚合 物和淀粉之和,所述组合物包含10-100重量份的聚合物和0-90重量份的 淀粉。
11.如权利要求1-10任意一项所述的方法,其中所述组合物为水溶液 或水分散体。
12.如权利要求1-11任意一项所述的方法,其中所述印花法为电子照 相法。
13.如权利要求1-12任意一项所述的方法,其中所述印花法为LEP法 (液体电子照相印花)。
14.如权利要求1-13任意一项所述的方法,其中所述待印花基材为纸 或聚合物膜。
15.如权利要求1-14任意一项所述的方法,其中所述待印花基材为未 涂布纸。
16.如权利要求1-15任意一项所述的方法,其中所述待印花基材为全 化浆纸。
17.如权利要求1-16任意一项所述的方法,其中使用所述组合物涂覆 或浸渍所述基材。
18.如权利要求1-17任意一项所述的方法,其中使用0.05-15g/m2,优 选0.1-5g/m2的所述组合物(固体)涂覆或浸渍所述基材。
19.一种由权利要求1-18任意一项所述的方法得到的印花基材。
20.一种使用权利要求1-11任意一项所述的组合物涂覆或浸渍的纸。
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