[发明专利]偏振片保护膜及其制造方法、偏振片及其制造方法、液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 200780019187.8 申请日: 2007-05-21
公开(公告)号: CN101454696A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 川边里美;中村和明 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈 昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 偏振 保护膜 及其 制造 方法 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.偏振片保护膜的制造方法,其特征在于,采用含有纤维素酯及选自下列通式(1)~(3)表示化合物的至少1种的熔融物,采用熔融流延法,在熔融流延制膜时从流延模具挤出的纤维素酯膜,用能弹性变形的接触辊筒与冷却辊筒夹压,制造长幅的纤维素酯膜,卷绕成辊筒状:

通式(1)

式中,R1~R5表示选自氢原子、氟原子、氯原子、甲基、乙基、异丙基、羟乙基、甲氧基甲基、三氟甲基、叔丁基、环戊基、环己基、苄基、2-苯乙基、苯基、萘基、对甲苯基、对氯苯基、甲氧基、乙氧基、异丙氧基、丁氧基、苯氧基、氰基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、甲硫基、乙硫基、丁硫基、苯硫基、甲磺酰氨基、苯磺酰氨基、3-甲基脲基、3,3-二甲基脲基、1,3-二甲基脲基、二甲基氨磺酰基氨基、甲基氨基甲酰基、乙基氨基甲酰基、二甲基氨基甲酰基、乙基氨磺酰基、二甲基氨磺酰基、甲氧基磺酰基、乙氧基磺酰基、苯氧基磺酰基、甲磺酰基、丁磺酰基、苯磺酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、甲基氨基、乙基氨基、二甲基氨基、羟基、硝基、亚硝基、吡啶-氧基、酞酰亚胺基、苯基二硫基、苯并噻唑啉基-2-二硫基、羧基、磺基、吡咯基、吡咯烷基、吡唑基、咪唑基、吡啶基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并唑基的取代基,

R3~R5表示的取代基的至少1个为氢原子;或者,R1~R5表示的取代基的至少1个为羟基或由羟基取代的取代基,

通式(2)

式中,R1~R6表示选自氢原子、氟原子、氯原子、甲基、乙基、异丙基、羟乙基、甲氧基甲基、三氟甲基、叔丁基、环戊基、环己基、苄基、2-苯乙基、苯基、萘基、对甲苯基、对氯苯基、甲氧基、乙氧基、异丙氧基、丁氧基、苯氧基、氰基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、甲硫基、乙硫基、丁硫基、苯硫基、甲磺酰氨基、苯磺酰氨基、3-甲基脲基、3,3-二甲基脲基、1,3-二甲基脲基、二甲基氨磺酰基氨基、甲基氨基甲酰基、乙基氨基甲酰基、二甲基氨基甲酰基、乙基氨磺酰基、二甲基氨磺酰基、甲氧基磺酰基、乙氧基磺酰基、苯氧基磺酰基、甲磺酰基、丁磺酰基、苯磺酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、甲基氨基、乙基氨基、二甲基氨基、羟基、硝基、亚硝基、吡啶-氧基、酞酰亚胺基、苯基二硫基、苯并噻唑啉基-2-二硫基、羧基、磺基、吡咯基、吡咯烷基、吡唑基、咪唑基、吡啶基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并唑基的取代基,

R3~R6表示的取代基的至少1个为羟基或由羟基取代的取代基,

通式(3)

式中,Rf表示碳原子数3~20的金氟烷基,Rc表示碳原子数2以上的亚烷基,Z表示非离子性极性基,n为0或1,m表示1~3的整数。

2.偏振片保护膜,其特征在于,采用权利要求1所述的偏振片保护膜的制造方法进行制造。

3.偏振片,其特征在于,在偏光组件的至少1个面上具有权利要求2中所述的偏振片保护膜。

4.偏振片的制造方法,其特征在于,把权利要求2中所述的偏振片保护膜从卷绕状态卷开后与偏光组件粘贴。

5.液晶显示装置,其特征在于,在液晶单元的至少1个面上采用权利要求3中所述的偏振片或权利要求4中所述的偏振片的制造方法制造的偏振片。

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