[发明专利]调整气相沉积靶的方法和系统

权利要求书

1.用于调整气相沉积靶的方法，其包括：

运行其中使用气相沉积靶的气相沉积系统；

探测气相沉积系统中发生的电弧；并

通过调节驱动气相沉积系统的电源的输出电流并调节将能量输送到各 电弧所用的时间，以将基本相同的能量输送到各电弧，来调整气相沉积靶。

2.权利要求1的方法，其中输送到各电弧的能量近似等于气相沉积靶 在不被损坏条件下所能承受的最大能量。

3.权利要求1的方法，其中进行所述运行、探测和调整，直到测定的 电弧频率降到预定阈值以下。

4.权利要求1的方法，其中当探测电弧时将所述电源切换成恒流模式。

5.权利要求1的方法，其中当测定的电弧频率超过预定阈值时，将所 述输出电流控制为与测定的电弧频率成反比。

6.权利要求1的方法，其中所述调节将能量输送到各电弧所用的时间 包括：

在电弧延迟期间，测定电源的输出电流和输出电压；并

基于输送到各电弧的基本相同的能量、测定的输出电流和测定的输出 电压，来计算将能量输送到各电弧所用的时间。

7.权利要求6的方法，其中在电弧延迟期间，输出电压近似作为预定 恒量而不进行测定，基于输送到各电弧的基本相同的能量、测定的输出电 流和近似的输出电压计算将能量输送到各电弧所用的时间。

8.控制气相沉积过程的方法，其包括：

以用户指定的输出功率运行气相沉积过程，气相沉积过程由电源驱动； 和

当测定的电弧频率超过预定阈值时，进行下列过程：

将气相沉积过程切换成靶调整模式；

探测气相沉积过程中发生的电弧；

调节电源的输出电流并调节将能量输送到各电弧所用的时间，而 将基本上相同的能量输送到各电弧；并

重复探测和调节直到测定的电弧频率降到预定阈值以下。

9.权利要求8的方法，其中所述输送到各电弧的能量近似等于气相沉 积过程中使用的气相沉积靶在不被损坏条件下所能承受的最大能量。

10.权利要求8的方法，其还包括：

在测定的电弧频率降到预定阈值之下后，以用户指定的输出功率恢复 运行气相沉积过程。

11.权利要求8的方法，其中在靶调整模式期间，将电源切换成电流控 制模式，其中无论是否存在电弧，电源的输出电流都基本保持在预定水平 不变。

12.气相沉积系统的电源，其包含：

接收输入功率的输入级；

为气相沉积过程提供输出功率的输出级；

将输入功率转换成输出功率的能量转换子系统；和

与所述能量转换子系统相连的控制器，在靶调整模式期间设定该控制 器，使其：

探测气相沉积系统中发生的电弧；和

调节电源的输出电流并调节在期间将能量输送到各电弧所用的时 间，而将基本相同的能量输送到各电弧。

13.权利要求12的电源，其中设定所述控制器，使输送到各电弧的能 量近似等于气相沉积过程中使用的气相沉积靶在不被损坏条件下所能承受 的最大能量。

14.权利要求12的电源，其中所述能量转换子系统将交流电转换成直 流电。

15.权利要求12的电源，其中设定所述控制器，使其保持靶调整模式， 直到测定的电弧频率降到预定阈值以下。

16.权利要求12的电源，其中设定所述控制器，使得在探测电弧时电 源切换成恒流模式。

17.权利要求12的电源，其中设定所述控制器，使得当测定的电弧频 率超过预定阈值时，将输出电流调节为与测定的电弧频率成反比。