[发明专利]光学叠层体

说明书

相关申请 

本申请以专利申请特愿2006-88763(日本)为基础，主张巴黎条约的优先权。因此本申请包括了该专利申请中的全部内容。 

技术领域

本发明涉及防止界面反射和干涉条纹的光学叠层体。 

背景技术

对液晶显示器(LCD)或阴极射线管显示装置(CRT)等图像显示装置中的显示屏要求荧光灯等外部光源照射的光线反射少，且辨认性高。与此相对的是，将光学叠层体的透明物体的表面用折射率低的透明皮膜被覆来得到反射率低的光学叠层体(例如防反射叠层体)，通过具有该光学叠层体可以降低图像显示装置的显示屏的反射性，提高辨认性。 

另外，在阴极射线管显示装置(CRT)、等离子体显示器(PDP)、有机或无机电致发光显示器(ELD)、场发射显示器(FED)、或液晶显示器(LCD)之类的图像显示装置中，要求防止由外来光线的反射或像的映入引起的对比度的降低、辨认性的降低。因此，为了利用光的漫射原理或光学干涉原理来降低像的映入或反射率，一般在图像显示装置的最表面设置防反射叠层体。 

另外，从图像显示装置的显示屏的耐污染性等观点出发，在光学叠层体上形成防静电层较好。例如，在日本特许公开2004-94007号中提出了在透光性基材的表面上依次平滑地形成防静电层、硬涂层的防反射光学叠层体。 

但是，对于叠层有折射率区别大的防反射叠层体而言，在彼此重合的 层的界面上常常会出现界面反射和干涉条纹。特别是，已被指出，该叠层体在透光性基材和防静电层的界面上出现干涉条纹，图像的辨认性低。 

但是经本发明人等确认，现在还未提出下述光学叠层体，在所述光学叠层体中，以凹凸形状形成防静电层，且通过使该凹凸形状具有特定的物性值，可有效防止反射界面和干涉条纹，并且通过使防静电层的表面为凹凸形状，可以提高光学叠层体的层间界面的接合性。 

发明内容

本发明人等，在研究本发明时发现，通过使防静电层为凹凸形状，且使该凹凸形状具有特定的物性值，可以提高光学叠层体的层间界面的接合性，并且对于透光性基材和/或硬涂层的界面，通过实质上消除它们的界面可以有效防止界面反射和干涉条纹的发生。因此，本发明着眼于透光性基材和/或硬涂层、和防静电层的界面，通过增强其界面接合性，且实质上消灭它们的界面，可以提供具有机械强度、优异的防反射功能、和高辨认性的光学叠层体。 

因此，本发明的光学叠层体，具有透光性基材，并且在该透光性基材上至少具有防静电层， 

所述防静电层作为防静电剂含有导电性聚合物， 

所述防静电层的表面具有凹凸形状， 

所述防静电层的凸部的高度为40nm～300nm。 

本发明提供下述技术方案(1)～(11)。 

(1)一种光学叠层体，具有透光性基材、在该透光性基材上形成的防静电层和在所述防静电层的表面形成的在由JIS 5600-5-4(1999)规定的铅笔硬度试验中显示出“H”以上的硬度的硬涂层， 

所述防静电层作为防静电剂含有导电性聚合物， 

所述防静电层的表面具有凹凸形状， 

所述防静电层的凸部的高度为40nm～300nm， 

所述硬涂层使用含有树脂和浸渗性溶剂的组合物来形成。 

(2)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述防静电层的凸部的宽度为40nm～100μm。 

(3)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述防静电层的凹部的深度为5nm～40nm。 

(4)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述防静电层的凹部的宽度为10nm～100μm。 

(5)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述导电性聚合物是聚噻吩或 其衍生物。 

(6)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述聚噻吩衍生物以下述通式(I)表示， 

通式I 

上式中，m表示数值1～50。 

(7)根据上述(6)所述的光学叠层体，在所述防静电层上赋予了含有树脂和浸渗性溶剂的硬涂层用组合物， 

所述浸渗性溶剂使所述防静电层或所述透光性基材浸渗和/或润湿。 

(8)根据上述(1)所述的光学叠层体，所述防静电层具有凹凸形状，所述防静电层与所述硬涂层或所述透光性基材牢固接合。 

(9)根据上述(1)～(8)的任一项所述的光学叠层体，是作为防反射叠层体使用的。