[发明专利]具有用来获取光强度的探测器的照明系统

权利要求书

1.一种用于微光刻-投影曝光设备的照明系统，其中，所述照明系统包括：

光源，其发射≤100nm波长范围中的光，特别是在EUV-波长范围内的光，用来对出射光瞳平面(121)进行照明，以及

一种元件，利用所述元件在所述出射光瞳平面(121)中至少一个第一照明(22)可向第二照明(24)改变，以及至少一个用来探测光的探测器(106.1，106.2)，

其中，

所述照明系统包括一种装置(164)，所述装置获取探测器(106.1，106.2)的至少一个光强度信号并至少根据所获取的光强度信号来提供控制信号(166)，利用所述控制信号可调节在所述微光刻-投影曝光设备的像平面(221)中的光敏物体的扫描速度。

2.根据权利要求1的照明系统，其特征在于，所述探测器(106.1，106.2)在从所述光源(100)至所述出射光瞳平面(121)的光的光路中设置在所述光源(100)和所述出射光瞳平面(121)之间。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述装置获取第一调节信号，所述第一调节信号代表所述元件的第一调节，其中，利用所述第一调节提供所述第一照明(22)。

4.根据权利要求3的照明系统，其特征在于，所述装置获取第二调节信号，所述第二调节信号代表所述元件的第二调节，其中，利用所述第二调节提供所述第二照明(26)。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述装置具有带有存储单元的调整单元(1030，164)，在所述存储单元中存储有至少一个用于所述第一照明的校准值和用于所述第二照明的第二校准值。

6.根据权利要求5的照明系统，其特征在于，在所述存储单元中存储给出多个校准值的校准表。

7.根据权利要求5的照明系统，其特征在于，所述元件连续地调节在所述出射光瞳平面(121)中的照明并且在所述存储单元中存储校准曲线。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述光敏物体设置在扫描台(502)上并且所述扫描速度确定所述扫描台的推进速度。

9.根据权利要求8的照明系统，其特征在于，所述光敏物体(220)是晶片。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的照明系统，其特征在于，用来改变所述照明的所述元件是光阑(130)，所述光阑设置在所述出射光瞳平面(121)中或设置在所述出射光瞳平面的附近或设置在相对于所述出射光瞳平面(121)的共轭平面中。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统包括一可替换的带棱面的光学元件，并且用来改变所述照明的所述元件是所述可替换的、带棱面的光学元件。

12.根据权利要求1至9中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统包括具有多个位置可改变的棱面镜的带棱面的光学元件(113)并且用来改变所述照明的所述元件是具有位置可改变的棱面镜(114)的带棱面的元件。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的照明系统，其特征在于，探测器(160.1)在从所述光源(100)到所述出射光瞳平面(121)的光路中设置在用来改变所述照明的调节的所述元件(130)之后。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的照明系统，其特征在于，探测器(160.2)在从所述光源(100)到出射光瞳平面(121)的光路中设置在用来改变所述照明的调节的所述元件(130)之前。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述探测器(160.1，160.2)设置在用来改变用来调节所述出射光瞳平面的照明的所述元件(130)上或在元件(130)附近。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的照明系统，其特征在于，所述探测器(160.1，160.2)设置在物平面(200)上或在物平面(200)附近或设置在所述微光刻-投影曝光设备的像平面(221)上或在像平面附近。