[发明专利]硫化镍沉淀方法

权利要求书

1. 一种从水溶液中沉淀镍离子的连续方法，该方法包括：

a)提供包含溶解的镍离子和溶解的氧的含水母液，其中溶解的镍离子的浓度小于1g/L；

b）从所述含水母液中除去氧以提供除气的进料水；

c)在包括0～50℃的接触温度、0.5～1.5个大气压的接触压力、和6～9的接触pH的接触器条件下，使该除气的进料水与溶解在含水母液中的硫化物源在接触器中接触以形成固体硫化镍；

d)从该母液中分离固体硫化镍，由此提供硫化镍淤泥和贫化水溶液，其中该硫化镍淤泥具有至少5微米的平均硫化镍尺寸且该贫化水溶液具有小于10ppm的溶解镍浓度，和

e)将至少一部分硫化镍淤泥循环到接触器，从而使得所述循环部分的晶种硫化镍颗粒生长以提供至少5微米的平均镍颗粒尺寸。

2. 权利要求1的方法，其进一步包括，在该含水母液中溶解凝结剂，使得在使该母液与溶解的硫化物接触时存在溶解的凝结剂。

3. 权利要求2的方法，其中该凝结剂为铝盐。

4. 权利要求3的方法，其中该凝结剂为氯化铝。

5. 权利要求1的方法，其中控制该凝结剂剂量范围以调节接触器条件。

6. 权利要求1的方法，其中该接触pH为约8.3。

7. 权利要求1的方法，其中在接触器中接触的步骤的平均水力停留时间小于1小时。

8. 权利要求1的方法，其中在接触器中接触的步骤的平均水力停留时间小于30分钟。

9. 权利要求1的方法，其中在接触器中接触的步骤的平均水力停留时间为约20分钟。

10. 权利要求1的方法，其中该接触温度小于35℃。

11. 权利要求1的方法，其中该方法不加热而进行。

12. 权利要求1的方法，其中该接触器温度为环境温度。

13. 权利要求1的方法，其中该接触器压力在环境压力的0.5个大气压之内。

14. 权利要求1的方法，其中该接触器压力为环境压力。

15. 权利要求1的方法，其中该含水母液包括选自钴、铜、铁、锌、砷、汞、铅和锰的溶解的金属。

16. 权利要求1的方法，其中该接触器条件包括接触器氧化还原电位，且该接触器氧化还原电位为-50～-400mV，相对于Ag/AgCl电极。

17. 权利要求1的方法，其中该接触器条件包括接触器固体浓度，且该接触器固体浓度小于50g/L。

18. 权利要求17的方法，其中该接触器固体浓度为10g/L～30g/L。

19. 权利要求1的方法，其中该硫化物源是由硫化氢形成的硫化物盐。

20. 权利要求1的方法，其中该接触器中硫化物浓度相对于溶解镍浓度是化学计量过量的。

21. 权利要求1的方法，其中进行硫化镍淤泥循环到接触器，由此使得在接触器内保持硫化镍颗粒浓度范围为5～50g/L。

22. 权利要求1的方法，其中该贫化水中溶解镍浓度为0.01～10mg/L。

23. 权利要求1的方法，其进一步包括，保持接触器pH低于约9，由此使得抑制在接触器内固体氢氧化镍的形成。

24. 权利要求23的方法，其进一步包括，加入碱以保持该pH。

25. 权利要求1的方法，其进一步包括，在将硫化镍淤泥循环到接触器之前，在调节反应器中调节循环的硫化镍淤泥以使该淤泥中硫化镍颗粒胶溶。

26. 权利要求25的方法，其进一步包括，在调节反应器中加入硫化物。

27. 权利要求1的方法，其中该贫化水用于溶解硫化物盐以提供溶解的硫化物。