[发明专利]喷淋板、和使用它的等离子体处理装置及处理方法及电子装置的制造方法

权利要求书

1.一种喷淋板，该喷淋板配置在等离子体处理装置的处理 室中，为了在处理室中产生等离子体而排出等离子体激励用气 体，

将喷淋板设为一体物，在该喷淋板上设置用于导入来自等 离子体处理装置的气体导入口的等离子体激励用气体的横孔、 和与该横孔相连通，并用于排出等离子体激励用气体的纵孔， 该横孔自该喷淋板的侧面朝向中心部地设置且该横孔沿着该喷 淋板的周向设有多个。

2.一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置将权利要 求1所述的喷淋板配置在处理室中。

3.一种等离子体处理方法，该等离子体处理方法使用权利 要求1所述的喷淋板，将等离子体激励用气体供给到等离子体 处理装置中，利用微波激励所供给的等离子体激励用气体而产 生等离子体，使用该等离子体对基板实施氧化、氮化、氧氮化、 CVD、蚀刻、或等离子体照射。

4.一种电子装置的制造方法，包含利用权利要求3所述的 等离子体处理方法来处理基板的工序。