[发明专利]光波前构造无效
申请号: | 200780020864.8 | 申请日: | 2007-05-18 |
公开(公告)号: | CN101460879A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | G·布隆伯格 | 申请(专利权)人: | 卢森特技术有限公司 |
主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06;G02B26/08;G03H1/22;G02F1/29 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;王丹昕 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光波 构造 | ||
1.一种用于产生三维图像的方法,包括:
提供被所期望场景散射或通过所期望场景透射的相干光的相对相位在预选孔径上的逐像素映射;
响应于用相干光束照射可重构镜片阵列而定位该阵列的微镜,以产生其波前在预选孔径上具有该逐像素映射的反射光;以及
用相干光束照射可重构镜片阵列以使得能够产生所期望场景的三维图像。
2.如权利要求1所述的方法,其中微镜的有效横向线性尺寸比光束的波长的约十倍小。
3.如权利要求1所述的方法,其中微镜的有效横向线性尺寸比光束的波长的约五倍小。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述定位包括垂直于阵列的平均表面平移微镜。
5.如权利要求1所述的方法,其中逐像素映射提供被所期望场景散射或通过所期望场景透射的相干光的相对强度;并且
其中该方法包括重复所述提供和定位,和照射步骤,以使得能够用相同的阵列产生不同的三维图像。
6.一种设备,包括:
具有选定波长的相干光光源;
布置为被光源照射的可重构镜片阵列,该阵列包括多个可移动微镜;并且
其中每个微镜的最大有效横向线性尺寸小于波长的十倍。
7.如权利要求6所述的设备,其中每个微镜的最大有效横向线性尺寸小于波长的五倍。
8.如权利要求6所述的设备,其中每个微镜的最大有效横向线性尺寸小于波长的两倍。
9.如权利要求6所述的设备,进一步包括:
多个MEMS致动器,每个MEMS致动器被配置为基本垂直于阵列表面平移相应的一个微镜。
10.如权利要求9所述的设备,进一步包括处理器,其被配置为响应于接收相干光束的强度和相位在孔径上的逐像素映射而使得MEMS致动器重新定位微镜。
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