[发明专利]热固化性树脂组合物、固态成像元件的防光晕膜的形成方法、固态成像元件的防光晕膜、以及固态成像元件

说明书

技术领域

本发明涉及热固化性树脂组合物、固态成像元件的防光晕膜的形成方法、固态成像元件的防光晕膜、以及固态成像元件。

背景技术

固态成像元件有MOS(金属氧化物半导体)型、CCD(电荷耦合器件)型等，它们分别有一维固态成像元件和二维固态成像元件。前者的例子例如有传真机等，后者的例子例如有摄像机等。

近年来随着数字化的发展，用户要求上述固态成像元件具有高品质，还不断要求其具有高画质。数码相机像素数的增加等就是其中一个例子。

固态成像元件有黑白和彩色，其中彩色固态成像元件是在形成有固态成像元件的基板上形成三色的滤色器而制作的。固态成像元件可以直接使用，并进一步在各固态成像元件所对应的表面具备凸透镜(显微透镜)以提高灵敏度(集光能力)(参照日本特开平3-223702号公报)。

在固态成像元件上装备滤色器和/或显微透镜时，采用用感光性材料的光刻技术形成精细图案来进行。

显微透镜的形成如下进行：形成固态成像元件，根据需要进一步在形成有滤色器的基板上涂布透明树脂，使表面平坦，然后涂布含有感光性树脂的显微透镜材料，将透镜的图案曝光、显影，进行冲洗处理，将残留的透明树脂块进行加热，略微熔融，使其收缩，使各块形成凸透镜的形状。

在上述滤色器或显微透镜的形成步骤中，使感光性材料曝光、形成图案时，由于来自底层基板的漫反射光，导致不希望曝光的部分也被感光，实际的图案尺寸与目标尺寸产生差异，即发生“成晕现象”。

采用显微透镜时，如果发生上述现象，则透镜的形状不一致，产生闪烁，对画质产生不良影响。这随着最近固态成像元件的单元尺寸的减小而成为重大问题。

为了解决该问题，已知有在固态成像元件基板上形成吸收光刻中使用的放射线的防反射膜，抑制反射、防止光晕的方法。其例子有：在以聚甲基丙烯酸缩水甘油酯为主要成分，固化剂使用偏苯三酸的CCD用保护膜中配合染料的方法(参照日本专利第2956210号说明书)。但是，上述防反射膜存在如下缺点：在为了使涂布的材料交联固化而进行的焙烤步骤中，染料的一部分从防反射膜中升华，防光晕效果显著降低，如果是不挥发性的染料，则染料浮出到保护膜上，在防光晕膜上形成的显微透镜无法形成所需形状等。

还有人提出了含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含环氧基的自由基聚合性化合物与一和/或二烯烃系不饱和化合物的共聚物，以及放射线吸收性化合物的防光晕膜(参照日本特开平06-289201号公报)。该防光晕膜设想了在膜形成后的温度历程为150℃以下的工艺，对于超过150℃的温度下的耐热性尚未进行验证。

但是，在彩色固态成像元件中，以往是采用使用染料基质的滤色器用材料，因此滤色器有可能在150℃左右的较低温度下固化。但是，随着近年来高精度的要求，通常是采用颜料系的材料，因此，在其形成步骤中，必须采用180℃以上的固化温度(参照日本特开平11-211911号公报、日本特开平11-258415号公报和日本特开2000-111722号公报)。

因此，在彩色固态成像元件中，在滤色器之前形成的防光晕膜会暴露在比以往更高的温度下。如果是以往已知的防光晕膜材料，暴露在上述高温下，则防光晕膜无法发挥功能。推测该现象可能是由于在超过150℃的高温区域下，配合在防光晕膜材料中的放射线吸收剂升华而挥发，因此放射线吸收能力显著降低。

以往通常是采用双液型防光晕膜，从操作性的角度考虑，优选单液型。并且，即使是单液型，也存在在室温下一周左右就会增稠、在装置周边发生固化、维护次数增加、成品率降低的问题，人们需求在室温下保存稳定性良好的防光晕膜。

发明内容

本发明针对上述情况而设，其目的在于提供适合形成防光晕膜的热固化性树脂组合物；使用该热固化性树脂组合物形成防光晕膜的方法；通过该方法形成的防光晕膜；以及具有该防光晕膜的固态成像元件，所述防光晕膜的保存稳定性优异，同时在形成固态成像元件中的滤色器或显微透镜时的曝光步骤中，可以有效抑制来自底层基板的漫反射光，并且具有高耐热性、即使是干蚀刻也不会发生膜粗糙。

根据本发明，本发明的上述第一目的通过如下热固化性树脂组合物得以实现，该热固化性树脂组合物的特征在于：含有[A]具有甲基缩水甘油基的聚合物、以及[B]紫外线吸收剂。这里，上述[A]成分优选(a1)具有甲基缩水甘油基的聚合性不饱和化合物与(a2)上述(a1)以外的聚合性不饱和化合物的共聚物。