[发明专利]薄膜制造装置及薄膜制造装置用内部块

权利要求书

1.一种薄膜制造装置，包括：真空槽、封闭上述真空槽的上部的 盖体、支承被处理基板的载台、以及与上述载台对向地安装在上述盖 体上的气体压头，其特征在于，

具有内部块，该内部块配置在上述真空槽和上述盖体之间，内置 有加热源，而且对上述载台和上述气体压头之间的反应空间的容积进 行规定；

上述内部块为设置在上述真空槽的内壁面和上述载台的外周部之 间的环状块体，而且具有通过环状密封部件相对于上述真空槽和上述 盖体被挟持的周缘部。

2.如权利要求1所述的薄膜制造装置，其特征在于，在上述内部 块的内周部上安装有防护板。

3.如权利要求1所述的薄膜制造装置，其特征在于，在上述真空 槽的内部形成有下部空间，该下部空间具有通过形成于上述内部块的 内周部和上述载台的外周部之间的排气通道与上述反应空间连通的排 气口；上述下部空间具有比上述反应空间大的容积。

4.如权利要求3所述的薄膜制造装置，其特征在于，在上述下部 空间设置有气体分压控制用的气体导入口。

5.如权利要求1所述的薄膜制造装置，其特征在于，在上述盖体 和上述内部块上形成有将成膜气体向上述气体压头导入的气体导入线 路。

6.如权利要求1所述的薄膜制造装置，其特征在于，在上述盖体 和上述内部块之间配置有对上述气体压头和上述载台之间的距离进行 调整的间隔块。