[发明专利]离子注入机内的射束角度调节

权利要求书

1.一种校正离子注入系统内的注入角度的方法，所述方法包括以下步骤：

在离子注入系统内生成离子射束，所述离子注入系统包括扫描元件；

确定所述离子射束相对于由射束将离子注入到其内的工件的机械表面的注入角度分布，和所述离子射束相对于系统内的射束诊断的校准参考的注入角度分布中的至少一个注入角度分布；

确定角度是否可接受；以及

如果所述角度不可接受，则调节导引电压以校正射束角度，以将离子射束导引到扫描元件的扫描顶点。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括步骤：

从所述注入角度分布确定平均角度，以及

确定所述平均角度是否可接受。

3.一种离子注入系统，包括：

用于生成离子射束的部件；

用于质量分析所述离子射束的部件；

扫描部件；

用于将经质量分析的所述离子射束导引到平行化部件的聚焦点的导引部件，所述平行化部件位于扫描部件的下游，并被构造成使被所述扫描部件扫描的所述离子射束平行；以及

终端站，其位于所述平行化部件的下游，并被构造成支撑将被所述离子射束注入有离子的工件。

4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述导引部件包括至少一对电极。

5.根据权利要求3所述的系统，其中，所述导引部件包括至少一对静电偏转板。

6.根据权利要求3所述的系统，进一步包括：

测量部件，其被构造成测量所述射束相对于所述工件的机械表面的注入角度分布，和所述射束相对于射束诊断系统的校准参考的注入角度分布中的至少一个注入角度分布；以及

控制器，其操作性地连接到所述测量部件和所述导引部件，并被构造成响应于由所述测量部件取得的多个测量值而调节所述导引部件的操作，以将所述离子射束导引向所述平行化部件的所述聚焦点。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述导引部件包括至少一对电极和至少一对静电偏转板中的至少一个，其中，所述控制器通过调节施加到所述至少一对电极和所述至少一对静电偏转板中的至少一个的电压而调节所述导引部件的操作。