[发明专利]立体光刻造型用树脂组合物有效
| 申请号： | 200780022172.7 | 申请日： | 2007-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN101466767A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 伊藤隆;萩原恒夫;弘津健二;村上正 | 申请（专利权）人： | CMET公司;宇部兴产株式会社 |
| 主分类号： | C08G65/18 | 分类号： | C08G65/18;C08G59/18;C08F2/50 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 立体 光刻 造型 树脂 组合 | ||
1.一种立体光刻造型用树脂组合物，其特征在于，基于立 体光刻造型用树脂组合物的总质量，含有3～60质量％比例的由 下述通式(I)表示的氧杂环丁烷化合物：
式中，R1表示碳原子数为1～5的烷基，以及R2表示任选碳 原子数为2～10的链状亚烷基或支链亚烷基。
2.根据权利要求1所述的立体光刻造型用树脂组合物，其 含有上述通式(I)表示的氧杂环丁烷化合物、上述通式(I) 表示的氧杂环丁烷化合物以外的阳离子聚合性有机化合物和活 性能量射线敏感性阳离子聚合引发剂。
3.根据权利要求1或2所述的立体光刻造型用树脂组合物， 其含有上述通式(I)表示的氧杂环丁烷化合物、上述通式(I) 表示的氧杂环丁烷化合物以外的阳离子聚合性有机化合物、自 由基聚合性有机化合物、活性能量射线敏感性阳离子聚合引发 剂和活性能量射线敏感性自由基聚合引发剂。
4.根据权利要求3所述的立体光刻造型用树脂组合物，其 基于立体光刻造型用树脂组合物的总质量，上述通式(I)表示 的氧杂环丁烷化合物的含量为3～60质量％，上述通式(I)表 示的氧杂环丁烷化合物以外的阳离子聚合性有机化合物的含量 为20～70质量％，自由基聚合性有机化合物的含量为5～50质量 ％，活性能量射线敏感性阳离子聚合引发剂的含量为1～10质量 ％以及活性能量射线敏感性自由基聚合引发剂的含量为1～10 质量％。
5.根据权利要求2所述的立体光刻造型用树脂组合物，其 中，上述通式(I)表示的氧杂环丁烷化合物以外的阳离子聚合 性有机化合物包含环氧化合物。
6.根据权利要求3所述的立体光刻造型用树脂组合物，其 中，自由基聚合性有机化合物包含烯属不饱和化合物。
7.根据权利要求1或2所述的立体光刻造型用树脂组合物， 其中，含有上述通式(I)表示的氧杂环丁烷化合物以外的氧杂 环丁烷化合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CMET公司;宇部兴产株式会社，未经CMET公司;宇部兴产株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780022172.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：中医药氧急救总程第一分程
- 下一篇：确定代码覆盖率的方法、测试装置
