[发明专利]包括氧化铝和/或含钛材料的CVD涂覆方案及其制造方法有效
申请号: | 200780022923.5 | 申请日: | 2007-06-12 |
公开(公告)号: | CN101473063A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | C·G·麦克纳尼;P·K·梅赫罗特拉;小A·S·盖茨;P·R·莱希特 | 申请(专利权)人: | 钴碳化钨硬质合金公司 |
主分类号: | C23C16/36 | 分类号: | C23C16/36;C23C14/06;B32B15/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 氧化铝 材料 cvd 方案 及其 制造 方法 | ||
发明背景
本发明涉及通过化学气相沉积(CVD)而涂覆的一种涂层 以及涂覆的产品,尤其是在材料去除应用(例如,切削加工、车削和 铣削)中有用的涂覆的切削镶片。更确切地,本发明涉及一种涂覆体 和制造涂层和涂覆体的方法,该涂覆体例如像一种涂覆的切削镶片, 其中该涂覆方案包括氧化铝和一种含钛材料(即,碳氮化钛和/或氧碳 氮化铝钛),由此,通过CVD涂覆的涂层具有可接受的附着力和耐磨 性。
迄今为止,涂覆体类,例如像涂覆的切削镶片已用于材料 去除应用中。这些涂层典型地包括呈现耐磨特性的硬耐火材料。在切 削镶片上使用涂层的一个主要目的是延长切削镶片的使用寿命。已经 有包括氧化铝和/或碳氮化钛涂层的多种涂覆方案,并且这些涂覆方案 的一些示例描述于下列专利文件中的一些。
Ljungberg的美国公开的专利申请号US2003/0008181 A1 涉及一种涂覆的切削工具,其具有一种有精细、等轴颗粒的氧化铝涂 层。Bryant等的美国专利号4,984,940和欧洲专利号0 463 000 B1 各自披露了使用钛、锆和/或铪的氮化物的多个薄层来分开氧化铝层, 其中它包括中断一种涂覆材料的沉积的一种方法。Ljungberg等的公 开的美国专利申请号US2002/0122701 A1披露了非柱状氧化铝可以通 过中断氧化铝的沉积来进行沉积。
Ruppi的美国专利专利号No.5,700,569披露了一种包括 多个氧化铝层的涂覆方案。如果该氧化铝是κ-氧化铝,在衬底层 (underlaying)氧化铝层的表面沉积有一个“改性层(modification layer)”,其中该改性层可以包括(Al Ti)(O,C,N)。
Toshiba Tungaloy的欧洲专利号0980917 B 1披露了一 个涂覆方案,它包括TiN/Ti(C,N)/(Ti,Al)(C,N,O)+ Al2O3/Al2O3/TiN。Oshika的美国专利号5,545,490涉及一种涂覆的切 削工具,它包括TiN/TiCN/TiCNO/Al2O3。该TiCNO层是将TiCN与氧化 铝层分离的一个薄层。Valenite Inc.的PCT专利申请号WO 99Z58738 披露了一种烧结碳化物或陶瓷物品,它表现出一种多层的CVD涂覆。 在一个实施方案中,该涂层包括靠近烧结碳化物基体表面的一个碳氮 化钛层,一个具有交替的碳氮化钛和氧化铝超薄层的多层涂覆结构, 以及一个氮化钛外层。
Gates,Jr.的美国专利号4,714,660涉及在一种烧结碳 化物基体上的硬涂层。该涂层可以包括氧碳氮化钛铝(TiwAlxOyCzNu), 其中w、x、y、z和u分别代表Ti、Al、O、C和N的摩尔分数。Ruppi 的公开的美国专利申请号US2002Z0176755 A1展示了MT-TiCN和氧化 铝(κ相和γ相)的多重交替层。Strondl等的美国专利号6,333,099 B1的专利涉及包括氧化铝和或许是钛铝碳化物或氮化物的交替涂层 序列。
Sandvik AB的PCT专利申请号WO99Z29920和PCT专利申 请号WO99Z29921均涉及一种周期性涂覆方案,其中氧化铝是多个交替 涂层之一。另一种层是一种碳化物或氮化物,其中金属(M和L)可以 包括Ti和Al。Kennametal的PCT专利申请号WO00Z52225(题为具 有包括多重MTCVD层的多层涂覆的工具),披露了经一个插入层分离 的MTCVD涂覆材料的多重层。
Kukino等的美国专利号5,700,551披露了一种调整的涂 层。图4表示在涂层构成上的一个周期性变化。Sumitomo Electric Industries的欧洲专利0 709 483 B 1涉及一种涂覆方案,其表现出 一个组成上被调整的区域。图17描述了一个调整后的涂覆方案。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的