[发明专利]具有支化羟基苯乙烯聚合物的正性工作可成像元件

权利要求书

1、一种非成色的、正性工作辐射-敏感性组合物，在曝光于辐射时，其变为可溶于或者可分散于碱性溶液，所述组合物包含辐射-吸收化合物和支化羟基苯乙烯聚合物。

2、权利要求1的组合物，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物包含衍生自4-羟基苯乙烯的支化羟基苯乙烯重复单元，该重复单元进一步被位于羟基邻位的重复4-羟基苯乙烯单元取代，且其重均分子量为1,000～30,000和多分散性小于2。

3、权利要求1的组合物，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物为如下结构式(II)所示的均聚物或共聚物：

-(A)_x-(B)_y-

(II)

其中，A和B一起提供聚合物主链，其中A包括支化羟基苯乙烯重复单元，B表示非支化羟基苯乙烯重复单元，x表示90～100mol％，且y表示0～10mol％。

4、权利要求1的组合物，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物为共聚物，其中至少60mol％的重复单元衍生自羟基苯乙烯，且其中至少90mol％的所述羟基苯乙烯重复单元进一步被位于羟基邻位的重复羟基苯乙烯单元取代。

5、权利要求1的组合物，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物为如下结构式(III)所示的共聚物：

-(A)_x-(B)_y-(C)_z-

(III)

其中，A、B、和C一起提供聚合物主链，其中A表示支化羟基苯乙烯重复单元，B表示非支化羟基苯乙烯重复单元，且C表示不同于A和B重复单元的重复单元，x表示60～95mol％，y表示0～10mol％，z表示0～40mol％。

6、权利要求5的组合物，其中C表示衍生自羟基苯乙烯单体之外的一种或多种(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烃、不饱和酰亚胺、不饱和酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈、和苯乙烯单体的重复单元。

7、权利要求6的组合物，其中C表示衍生自一种或多种(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-取代的马来酰亚胺、和(甲基)丙烯酰胺的重复单元。

8、权利要求1的组合物，其中所述辐射-吸收化合物为红外辐射-敏感性化合物。

9、一种正性工作可成像元件，包括其上具有可成像层的基底，该可成像层在曝光于辐射时变为可溶于或者可分散于碱性溶液且包含支化羟基苯乙烯聚合物，所述元件进一步包括辐射吸收化合物。

10、权利要求9的元件，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物包含衍生自4-羟基苯乙烯的重复单元，该重复单元进一步被位于羟基邻位的重复4-羟基苯乙烯单元取代，且其重均分子量为1,000～30,000和多分散性小于2。

11、权利要求9的元件，其中所述辐射吸收化合物是在600～1400nm波长处吸收辐射的红外辐射吸收染料。

12、权利要求9的元件，其中所述支化羟基苯乙烯聚合物为如下结构式(III)所示的均聚物或共聚物：

    -(A)_x-(B)_y-(C)_z-

(III)

其中，A、B和C一起提供聚合物主链，其中A表示支化羟基苯乙烯重复单元，B表示非支化羟基苯乙烯重复单元，且C表示不同于A和B重复单元的重复单元，x表示60～95mol％，y表示0～10mol％，z表示0～40mol％。

13、权利要求12的元件，其中x表示75～90mol％，y表示0～5mol％，z表示0～20mol％。

14、权利要求12的元件，其中C表示衍生自羟基苯乙烯单体之外的一种或多种(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烃、不饱和酰亚胺、不饱和酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈、和苯乙烯单体的重复单元。

15、权利要求12的元件，其中C表示衍生自一种或多种(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-取代的马来酰亚胺、和(甲基)丙烯酰胺的重复单元。