[发明专利]金属膜制造方法、底层组合物、金属膜及其用途

权利要求书

1.一种金属膜制造方法，该方法包括：

有机膜形成步骤：将包含具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布于基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；

金属盐生成步骤：用含有金属M1离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属M1盐；

金属固定步骤：用金属M2离子水溶液对经上述含有金属M1离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属M1盐转化为金属M2盐，所述金属M2离子水溶液含有离子化倾向比所述金属M1离子低的金属M2离子；和

还原步骤：对所述金属M2离子进行还原，在所述有机膜表面形成金属膜。

2.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述酸性基团包含选自苯酚基、苯甲酸基、苯二甲酸基、水杨酸基、乙酰水杨酸基和苯磺酸基中的官能团。

3.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物的反应基团包含丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。

4.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述亲水性官能团包含环氧乙烷基和/或环氧丙烷基。

5.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述金属M1为钾或钠。

6.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述金属M2为金、银、铜、钯、铟或铂。

7.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述金属M2离子水溶液包含碱金属的离子和/或碱土金属的离子。

8.权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，所述金属M2离子水溶液包含多元醇。

9.根据权利要求1所述的金属膜制造方法，其中，在所述还原步骤中，采用选自：

(1)抗坏血酸、抗坏血酸钠、硼氢化钠、二甲胺硼烷、三甲胺硼烷、柠檬酸、柠檬酸钠、鞣酸、二硼烷、肼、甲醛，

(2)(1)中的化合物的衍生物，和

(3)亚硫酸盐、次磷酸盐中的1种以上的还原剂、和/或选自

(4)紫外线、热、等离子体、氢中的1种以上的还原方法进行所述金属M2离子的还原。

10.根据权利要求9所述的金属膜制造方法，其中，在所述还原步骤中，当使用所述选自(1)、(2)和(3)中的1种以上的还原剂时，在碱金属和/或碱土金属的存在下进行所述金属M2离子的还原。

11.根据权利要求9所述的金属膜制造方法，其中，在所述还原步骤中，与所述还原剂一起使用醇和/或表面活性剂。

12.一种金属膜制造方法，该方法包括

有机膜形成步骤：将含有具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布在基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；

金属盐生成步骤：用含有金属M1离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属M1盐；

金属固定步骤：用金属M2离子水溶液对经上述含有金属M1离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属M1盐转化为金属M2盐，其中，所述金属M2离子水溶液含有离子化倾向比所述金属M1离子低的金属M2离子；和

还原步骤：对所述金属M2离子进行还原，在所述有机膜表面形成金属膜；

其中，通过下述方法形成具有图案形状的金属膜：

在所述有机膜形成步骤中，使用掩模通过紫外线照射使所述底层组合物聚合，然后除去未反应单体区域；或者

在所述还原步骤中，使用掩模并通过紫外线照射进行还原。

13.根据权利要求12所述的金属膜制造方法，其中，所述酸性基团包含选自苯酚基、苯甲酸基、苯二甲酸基、水杨酸基、乙酰水杨酸基和苯磺酸基中的官能团。

14.根据权利要求12所述的金属膜制造方法，其中，所述具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物的反应基团包含选自丙烯酰基、甲基丙烯酰基中的反应基团。

15.根据权利要求12所述的金属膜制造方法，其中，所述亲水性官能团包含环氧乙烷基和/或环氧丙烷基。