[发明专利]电磁波屏蔽网

说明书

技术领域

本发明涉及具有良好透光性和导电性的电磁波屏蔽网，该网被放置在显示器如PDP(等离子体显示屏)或FED(场发射显示器)的正面，从而屏蔽电磁波的泄漏。

背景技术

近来，从电子设备泄漏的电磁波导致多种问题，如其它电子设备的故障、通信故障等。也需要在大型显示器产品如PDP(等离子体显示屏)中屏蔽从显示屏泄漏的电磁波。为了屏蔽从大型显示屏如PDP泄漏的电磁波，从而要求所使用的电磁波屏蔽材料具有不对显示图像品质产生不良影响的足够的透光性。

作为这些材料，已经提出了透明导电膜如ITO膜(铟-锡氧化物膜)、通过以网的形式对具有铜层的膜进行刻蚀所得到的刻蚀网膜、以及通过在纤维纱网的每一根纤维纱上形成膜层所得到的导电纤维网。

ITO膜具有较高的透光性，但导电性低，并且因而电磁波屏蔽效果不足。刻蚀网膜和导电纤维网各自具有高导电性和足够的电磁波屏蔽效果，但是存在这样的问题：由于与显示器图像元件的干涉，网结构可能导致在显示器上所谓的“网纹干扰(moire)”。

日本发明2005-150427A公开了一种方法和程序，用于通过使用计算机设计刻蚀网膜等的网结构图案，以改善这样的网纹干扰问题。

在此方法中，通过利用随机数将每个矩形平行地上下左右移动，和/或通过利用随机数改变每个矩形的每条边的长度，形成一组组成网结构的紧邻的矩形。

然而，当通过此方法设计网结构时，必需预先确认PDP显示器的图像元件间距，并且还存在这样的问题：直到具有所设计图案的电磁波屏蔽材料被实际生产并评价后，才可以确认通过计算机的计算所设计的网结构图案是否能够实际上避免网纹干扰。

日本发明11-121978A公开了通过在透明基板上形成网状导电图案而获得的电磁波屏蔽板，进而改变构成导电图案的网状导电线的线间距。然而，在这种情况下，宽间距部分和窄间距部分在开口尺寸或开口率上必然不同，并且这可能导致开口斑点。当将这样的电磁波屏蔽板放置在显示器正面时，可能会产生图像亮度上的斑点。

发明内容

发明目的

本发明的目的是提供一种电磁波屏蔽网，其被安置在显示器如PDP(等离子体显示屏)或FED(场发射显示器)的正面，从而屏蔽电磁波的泄漏，并且该电磁波屏蔽网具有出众的透光性和电磁波屏蔽效果，并且能够被应用于具有不同图像元件间距的显示器上，而不引起任何网纹干扰和亮度斑点。

发明概述

本发明人为了解决上述问题已认真地进行了研究，并发现当将其中的经纱密度与纬纱密度在一定范围内不同的电磁波屏蔽网放置在显示器的正面时，电磁波的泄漏可以被充分地屏蔽而不导致任何网纹干扰和亮度斑点。

本发明涉及由纤维纱所编织的，并且在每一根纱线上涂覆导电金属的电磁波屏蔽网，其特征在于网中纬纱密度和经纱密度的比率R为0.67≤R≤0.97或1.03≤R≤1.50。

作为形成金属涂层的方法，可以优选使用常规的化学镀方法，或者共同使用化学镀方法和常规的电镀方法。

通过对电磁波屏蔽网的金属表面进行黑色处理，当所得到的网被放置在PDP显示器的正面时，其更不易引起注意，并且改善显示器屏的可见度。

发明效果

本发明的电磁波屏蔽网具有出众的透光性和电磁波屏蔽效果，并且优选地被用作安置在显示器正面的电磁波屏蔽材料，而不会导致任何网纹干扰和亮度斑点。

具体实施方式

本发明的网是由纬纱和经纱组成的编织网织物。这样的网在相邻的纱线之间具有宽间隔，并且因而具有良好的透光性。

这样的网中的纱线间隔通常被表达为开口率，其为不存在纱线的部分的面积与网的单位面积的比率，并且从纬纱密度、经纱密度、纬纱直径和经纱直径计算。在本发明中，网的开口率优选在50％至90％范围内。如果开口率低于50％，则不能充足地将光穿过网传送，并且当网被放置在显示器如PDP的正面时，屏幕易于变暗，而如果开口率高于90％，不但可加工性易被降低，而且电磁波屏蔽效果易被降低。

对构成网的纱线没有特别限制，但是优选长丝纱。单丝纱和复丝纱均被优选使用。

只要能够制造出长丝纱，可以使用任何纤维材料。此类纤维材料包括合成纤维、半合成纤维、再生纤维、无机纤维、金属纤维等。其中，从可加工性和持久性角度看，合成纤维是优选的。合成纤维的实例包括聚酯纤维，如聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺纤维，如尼龙6和尼龙66、聚烯烃纤维，如聚乙烯和聚丙烯、聚丙烯晴纤维、聚乙烯醇纤维、聚氨酯纤维、聚氯乙烯纤维以及它们的组合。其中，更优选为聚酯纤维和聚酰胺纤维。