[发明专利]用于激光束空间强度分布优化的系统和方法

权利要求书

1.一种处理液晶显示器的方法，包括：

在短轴方向整形激光光束分布，从而使更多的能量处于所述分布的一个边缘附近，所述边缘对应于所述光束所施加的硅衬底上的凸起；以及

将施加所述激光光束的步长增加至接近最大理论步长。

2.如权利要求1的所述的方法，还包括整形所述激光光束的长轴分布，以生成长而薄的光束。

3.如权利要求2的所述的方法，其中所述激光光束分布在所述短轴方向约为5微米宽。

4.如权利要求3的所述的方法，其中所述光束分布约为730毫米长。

5.如权利要求3的所述的方法，其中所述光束分布大约和玻璃基底一样宽。

6.如权利要求3的所述的方法，其中玻璃基底在所述光束分布下以恒速移动。

7.如权利要求6的所述的方法，其中，在0.5至4微米的平移后所述光束分布被触发发射。

8.如权利要求5的所述的方法，其中，在约2.5微米的平移后所述光束分布被触发发射。

9.如权利要求8的所述的方法，其中所述光束具有351纳米的波长。

10.如权利要求1的所述的方法，其中所述光束具有308纳米的波长。

11.一种液晶显示器，由如下步骤生产：

在短轴方向整形激光光束分布，从而使更多的能量处于所述分布的一个边缘附近，所述边缘对应于所述光束所施加的硅衬底上的凸起；以及

将施加所述激光光束的步长增加至接近最大理论步长。

12.一种制造液晶显示器的设备，包括：

被配置为周期性地产生激光的激光器；

光束整形光学系统，所述光学系统被耦合到所述激光器并且被配置为将从所述激光器发出的激光光束转换为具有短轴和长轴的长而薄的光束，其中在短轴方向的光束分布在一个边缘附近具有更多的能量，所述边缘对应于所述光束所施加的硅衬底上的凸起；以及

被配置为支撑所述硅衬底的工作台；以及

耦合到所述工作台的平移器，所述平移器被配置为推进所述硅衬底，从而产生与所述激光器的周期性发射相协同的步长，所述步长接近最大理论步长。

13.如权利要求12的所述的设备，其中所述激光器为至少900瓦的激光器。

14.如权利要求12的所述的设备，其中所述激光器工作在351纳米。

15.如权利要求12的所述的设备，其中所述激光器工作在308纳米。

16.如权利要求12的所述的设备，其中所述光束整形光学系统被配置为产生具有在所述短轴方向约为5微米的分布的激光光束。

17.如权利要求12的所述的设备，其中所述光束整形光学系统被配置为产生具有在所述长轴方向约为730毫米的分布的激光光束。

18.如权利要求16的所述的设备，其中所述平移器被配置为以恒定速度移动所述硅衬底。

19.如权利要求17的所述的设备，其中所述激光器被配置为在约5微米的平移后发射。

20.如权利要求15的所述的设备，其中所述步长约为2.5微米。

21.如权利要求12的所述的设备，其中所述硅衬底被设置在玻璃表面上。

22.如权利要求12的所述的设备，其中所述激光器是两腔激光系统。

23.如权利要求22的所述的设备，其中所述腔中的一个作为主振荡器，另一个作为功率放大器。