[发明专利]高折射率材料有效
申请号: | 200780025360.5 | 申请日: | 2007-07-04 |
公开(公告)号: | CN101484503A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 竹内义行 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | C08G77/04 | 分类号: | C08G77/04;G02B6/13 |
代理公司: | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 折射率 材料 | ||
1.一种高折射率材料的使用方法,其特征在于:用所述高折射率材料填充宽度小 于2μm的沟或具有小于2μm的直径的孔而形成高折射率构件,所述高折射率是大 于1.45而在2.0以下;
所述高折射率材料包含硅氧烷化合物(A),该硅氧烷化合物(A)具有以下结构 单元(A-1-1)或(A-1-3)
2.根据权利要求1所述的高折射率材料的使用方法,其特征在于:所述硅氧烷化 合物(A)的质量平均分子量为2000至30000。
3.一种高折射率构件,其特征在于:其用高折射率材料填充宽度小于2μm的沟 或具有小于2μm的直径的孔而形成,所述高折射率是大于1.45而在2.0以下;
所述高折射率材料包含硅氧烷化合物(A),该硅氧烷化合物(A)具有以下结构 单元(A-1-1)或(A-1-3)
4.一种图像传感器,其特征在于:具备根据权利要求3所述的高折射率构件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社,未经东京应化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780025360.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。