[发明专利]制造地板块的方法、通过该方法获得的地板块及所使用的工具组无效
申请号: | 200780025934.9 | 申请日: | 2007-07-09 |
公开(公告)号: | CN101489744A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 马克·卡佩勒 | 申请(专利权)人: | 地板材料工业有限公司 |
主分类号: | B27M3/04 | 分类号: | B27M3/04;E04F15/02;E04F15/04;F16B5/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 卢森堡*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 板块 方法 通过 获得 使用 工具 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于制造地板块的方法、通过该方法获得的地 板块以及这种方法使用的一组工具。
背景技术
更具体地,本发明涉及一种用于制造地板块的方法,该地板块 被设计为形成浮式地板覆层,并且在安装过程中,可通过机械接合 部(不论机械接合部是否与地板块制造为一体)将地板块在边缘处 接合在一起,所述接合部提供水平方向上以及垂直方向上地板块的 相互锁定,例如,如国际专利申请WO 97/47834、WO 01/98603和 WO 01/96688中所述。
从WO 97/47834中可明显看出,这种接合部的轮廓可借助使用 至少两个铣刀的加工处理而形成。从WO 01/96688可知,通过在地 板块的上边缘处提供斜面,用类似的切削工具为薄地板块以及厚地 板块形成这种接合部是可能的。然而,WO 01/96688中公开的方法 仅涉及在接合部整体轮廓的高度上的变化,并且不允许此轮廓根据 地板块的厚度被优化。
发明内容
本发明涉及一种用于不同厚度的地板块系列的更有效和/或更 经济的制造方法,其中如上所设计的接合部的轮廓的优化可以实 现。为此目的,本发明涉及一种用于制造至少在两个相对边具有接 合部的地板块的方法,当两块这种地板块彼此配合时,该接合部在 垂直于地板块平面的垂直方向上实现锁定以及在垂直于相应边且 在地板块平面内的水平方向上实现锁定,其中,通过榫-槽连接实现 垂直方向上的锁定,该凹槽由下凸缘和上凸缘界定,并且其中,在 水平方向上执行锁定的接合部设置有锁定部,该锁定部为所述下凸 缘内凹槽以及榫下侧处的与凹槽配合的凸出部的形式的,当两块这 种地板块配合时,所述锁定部形成至少水平活动的锁定表面,其中 形成于所述凹槽侧面上的锁定表面至少部分地位于下凸缘的延伸 至上凸缘之外的部分中,其中该方法至少包括形成具有所述槽的接 合部的步骤,其中该接合部的轮廓至少由两个部分组成,该两个部 分即,至少从凹槽的所述锁定表面延伸至凹槽的上升侧面部分的第 一部分,和至少从所述上凸缘的下侧延伸至所述下凸缘的上侧的第 二部分,其特征在于,该方法应用于制造至少两个系列的地板块, 其中第一系列的地板块与第二系列的地板块不同之处至少在于:它 们具有不同的厚度;在两个系列的地板块中,具有所述槽的接合部 轮廓的两个部分被制成为相同的;并且所述第二系列地板块中轮廓 的至少所述第一部分设置在相对于地板块上边缘的相对位置处,该 第一部分相对于所述第一系列地板块中的其位置至少横向地移位。
所述第一部分至少从凹槽的所述锁定表面延伸至凹槽的上升 侧面部分的事实表明该第一部分构成锁定表面自身的至少一部分, 并且该第一部分包括所述上升侧面部分的至少一部分。类似地,第 二部分至少从所述上凸缘的下侧延伸至所述下凸缘的上侧的事实 表明,所述上侧和下侧的至少部分被包括在此第二部分中。
以所述方式构成地板块接合部的轮廓导致接合部的有效设计, 该设计可应用于不同厚度地板块的系列,并且还可根据相应系列地 板块的厚度被优化。
为了提高设计和优化可能性,具有所述第二系列地板块中所述 槽的接合部轮廓的所述第二部分优选地位于相对于地板块上侧的 相对位置处,该第二部分相对于所述第一系列地板块中的其位置, 至少在横向于地板块表面的方向上移动。
优选地,所述第二部分至少延伸至下凸缘上侧处的侧面部分, 其中此侧面部分,整体地看,以比凹槽的所述上升侧面部分的最陡 部分的倾斜角更小的倾斜角延伸,并且其中,更好地,所述第一次 提到的侧面部分的延长部分邻接凹槽的所述上升侧面部分的延长 部分,这形成了具有槽的接合部轮廓的所述第一部分的一部分。很 明显,这种方法允许仅用有限数量的部分构成相应接合部的轮廓。 在所述邻接处,轮廓优选地具有倾斜角的陡变。这种邻接使第一部 分的位置可很大程度上不依靠第二部分的位置而选择,并且这种方 法由此还可产生大量的可能轮廓,所述轮廓至少由所述两个部分构 成。
为了限制具有槽的接合部轮廓的组成部分的数量,优选地,轮 廓的前述第一部分还包括所述下凸缘的远端和/或轮廓的前述第二 部分至少包括上凸缘的整个上侧。
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