[发明专利]用于微镜装置的显示控制系统无效
申请号: | 200780026223.3 | 申请日: | 2007-07-13 |
公开(公告)号: | CN101490596A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 远藤太郎;前田义浩;荒井一马;西野浩一;石井房雄 | 申请(专利权)人: | 硅探索株式会社;奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 辉 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 装置 显示 控制系统 | ||
1.一种显示控制系统,该显示控制系统包括:
a)微镜阵列,该微镜阵列包括多个镜;
b)控制功能部,该控制功能部用于控制所述镜以使其在第一调制控制状态和第二调制控制状态进行操作;以及
c)切换控制器,该切换控制器用于控制从所述第一调制控制状态到所述第二调制控制状态或者从所述第二调制控制状态到所述第一调制控制状态的切换,
其中,所述切换控制器在一帧时段内在预定点切换所述镜的状态。
2.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述切换控制器在一帧时段内在预定点同时地切换至少两个镜的状态。
3.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述第二调制控制状态包括将所述镜控制在开启角度位置与关闭角度位置之间的位置的操作状态、或振荡状态。
4.一种显示控制系统,该显示控制系统包括:
a)微镜阵列,该微镜阵列包括多个镜;
b)控制功能部,该控制功能部用于控制所述镜,以使其在第一调制控制状态、第二调制控制状态操作和第三调制控制状态进行操作;以及
c)切换控制器,该切换控制器用于控制从所述第一调制控制状态、所述第二调制控制状态或者所述第三调制控制状态中的一个调制控制状态到不同调制控制状态的切换;
其中,所述切换控制器在一帧时段内在预定点切换所述镜的状态。
5.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述切换控制器将所述镜控制为顺序地从所述第一状态切换成所述第二状态,其中,在所述切换控制器从所述第一调制控制状态向所述第二调制控制状态的切换期间,所述镜不操作在关闭状态下。
6.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
在所述第一调制控制状态与所述第二调制控制状态之间存在关闭状态。
7.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
将所述第一调制控制状态安排在一帧开始时,而将所述第二调制控制状态安排在所述帧结束时。
8.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述控制功能部接收用于控制所述调制控制状态的数字数据,并且由从所述数字数据导出的非二进制数据来控制至少一个调制控制状态。
9.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述切换控制器在一帧中至少在两个预先安排的时间同时将多个像素的调制控制状态从一个调制控制状态切换到不同状态。
10.根据权利要求1所述的显示控制系统,其中:
所述控制功能部接收包括(m+n)位二进制数据的传入信号,并将所述(m+n)二进制位分成高m位和低n位,其中,m和n分别表示第一正整数和第二正整数。
11.根据权利要求10所述的显示控制系统,其中:
将所述高m位用于控制所述镜以使其在所述第一调制控制状态操作,而将所述低n位用于控制所述镜以使其在所述第二调制控制状态操作。
12.根据权利要求10所述的显示控制系统,其中:
所述控制功能部还调整所述m与所述n的比率。
13.根据权利要求10所述的显示控制系统,其中:
所述控制功能部还分割所述二进制数据,以使得所述m位的最低侧与第一非零位之间的位移动至所述n位的较高侧,从而通过减少所述m位而增加所述n位。
14.一种显示控制系统,该显示控制系统包括:
a)微镜阵列,该微镜阵列包括多个镜;
b)控制功能部,该控制功能部用于将所述镜控制在第一调制控制状态和第二调制控制状态;
d)切换控制器,该切换控制器用于控制从所述第一调制控制状态和所述第二调制控制状态中的一个调制控制状态向不同调制控制状态的切换,以及
e)计算处理器,该计算处理器基于传入数据的亮度来确定在调制控制状态之间进行切换的定时。
15.根据权利要求14所述的显示控制系统,其中:
所述切换控制器还根据所述计算处理器进行的确定,控制所述第一调制控制状态与所述第二调制控制状态之间的所述切换,以针对各自显示图像显示的像素的至少两个所述镜同时切换所述调制控制状态,以缩减关闭时间。
16.根据权利要求14所述的显示控制系统,其中:
所述切换控制器还根据所述计算处理器进行的确定,控制所述第一调制控制状态与所述第二调制控制状态之间的所述切换,以针对各自显示图像显示的像素的至少两个所述镜同时切换所述调制控制状态,以缩减开启时间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅探索株式会社;奥林巴斯株式会社,未经硅探索株式会社;奥林巴斯株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780026223.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:针对登革病毒四种血清型的免疫接种方法
- 下一篇:成膜方法、清洁方法和成膜装置