[发明专利]用于形成电极的光敏导电糊料及电极无效

专利信息
申请号: 200780026310.9 申请日: 2007-07-13
公开(公告)号: CN101490619A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 敦彦佐藤;T·R·苏斯 申请(专利权)人: E.I.内穆尔杜邦公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 朱黎明
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 电极 光敏 导电 糊料
【说明书】:

发明背景

发明领域

本发明涉及一种等离子体显示板(PDP)的电极。更具体地,本发明涉及通过改进可用光形成图案(photo-patternable)的糊料来改进曝光宽容度并提供改进的PDP质量的技术。

技术背景

在PDP中可形成大于或等于1000个电极,所述电极测得为80-100微米宽度,0.5-1.5米长度。优选这些电极是没有缺陷的,并具有优良的线性(linearity)。通常使用银作为电极中包含的导电金属颗粒。

近来变成广泛使用光刻法形成PDP中的电极。这种方法中,首先涂覆可用光形成图案的糊料。然后,通过对由该可用光形成图案的糊料组成的膜进行曝光和显影,形成图案。随着近年来玻璃基板的尺寸增大,在曝光时开始使用近贴曝光(proximity exposure)。近贴曝光指一种系统,利用该系统能够在提供在光掩模和将进行曝光的涂覆膜之间几百微米的间隙的时候进行曝光。

在使用可用光形成图案的糊料形成图案的情况,希望增大工艺的宽容度(process latitude)。希望能增加曝光条件的自由度。在工艺宽容度小的情况,图案形状可依据曝光条件容易改变,或者电极宽度可变得不均匀。光敏性根据曝光条件在图案形状中产生变化表示自由度低,并且甚至导致对生产工艺的限制。当进行近贴曝光时,特别是形成的电极宽度倾向大于设计的电极宽度时,导致图像的清晰度下降。需要能避免该清晰度下降的措施。

日本专利申请公报第2003-195487号公开了为形成细小的轮廓明显的透明电极加入紫外光吸收剂的技术。根据该专利申请,添加紫外光吸收剂使得能够减小糊料内曝光用光的散射。紫外光吸收剂的例子包括:基于偶氮的染料、基于氨基酮的染料、基于呫吨的染料、基于喹啉的染料、基于蒽醌的染料、基于二苯甲酮的染料、基于二苯基氰基丙烯酸酯的染料、基于三嗪的染料和基于对氨基苯甲酸的染料。

但是,如果使用在日本专利申请公报第2003-195487中公开的染料基紫外光吸收剂等,则由于紫外光吸收剂本身吸收光,制成的糊料也是有色的。在使用导电糊料制备PDP的过程中,经常使用可见光进行缺陷检测,以确定涂覆的糊料的情况。此时,如果在糊料中包含吸收可见光的染料,就可能存在缺陷不能被检测到的区域。此外,如果因为添加剂紫外光吸收剂而使可见光的吸收率发生变化,则存在对光引发剂的效率具有不利影响的危险。例如,因为光引发剂具有在最大为450纳米附近的吸收范围,在使用这类光引发剂的情况,在该范围的吸收率的变化最后也会对光引发剂的反射效率有影响。

发明概述

本发明的目的是提供一种能防止发生上述问题同时还能实现高的图案分辨率的方法。

本发明涉及用于形成图案的光敏导电糊料,该糊料包含:导电金属颗粒、玻璃粘结剂、单体、光引发剂、有机聚合物粘结剂、有机介质和紫外光吸收剂,所述紫外光吸收剂基本上不会改变该糊料在可见光范围的反射率(reflectance)。

此外,本发明涉及使用该导电糊料形成的电极。

此外,本发明涉及具有上述电极的PDP。

此外,本发明涉及形成电极的方法,该方法包括以下步骤:在基板上涂覆用于形成电极的光敏导电糊料,所述用于形成电极的光敏导电糊料包含导电金属颗粒、玻璃粘结剂、单体、光引发剂、有机聚合物粘结剂、有机介质和紫外光吸收剂,所述紫外光吸收剂基本上不改变该糊料在可见光范围的反射率;对涂覆的导电糊料进行干燥;使用光掩模对干燥导电糊料形成的膜进行曝光;通过使曝光的膜显影,获得电极图案;对形成的电极图案进行烧制。

本发明中,通过使用紫外光吸收剂实现了高的图案分辨率。此外,通过添加紫外光吸收剂使糊料在可见光范围的光学特性几乎没有变化。因此,在使用可见光进行缺陷检测时几乎没有发生缺陷识别误差。

此外,因为紫外光吸收剂在可见光范围的吸收率几乎没有变化,因此也能防止对光引发剂的反应效率的影响。

附图简述

图1是使用样品1形成的电极图案的全视图的照片;

图2是使用样品2形成的电极图案的全视图的照片;

图3是使用样品3形成的电极图案的全视图的照片;

图4是使用样品4形成的电极图案的全视图的照片;

图5是使用样品5形成的电极图案的全视图的照片;和

图6示出样品1-5的反射率。

发明详述

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