[发明专利]包括辐射源模块和冷却装置的流体处理系统

权利要求书

1.一种工艺流体处理系统，所述工艺流体处理系统包括：

带有用于所述工艺流体的流体入口和流体出口的壳体；

设置在所述流体入口和流体出口之间的照射区；以及

包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，所述辐射源包括带有 外壁和内壁的放电容器，所述内壁封闭具有至少一个开口和用于点火并 维持放电的装置的内部体积，所述辐射源模块还包括可潜入所述工艺流 体内的框架，所述框架带有引导装置以将所述工艺流体的一部分经由所 述至少一个开口导入和导出所述辐射源的内部体积。

2.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述辐射源是介质阻 挡放电灯。

3.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述引导装置包括固 定所述至少一个开口的至少一个终结端帽，并且包括用于所述工艺流体 的入口端口和出口端口。

4.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述辐射源的内部体 积包括由第一端帽和第二端帽终结的第一开口和第二开口，其中所述第 一端帽包括入口端口而所述第二端帽包括出口端口。

5.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述引导装置包括阻 碍装置。

6.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述框架包括增强通 过所述辐射源的内部体积的所述工艺流体的流动的装置。

7.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述用于点火和维持 放电的装置包括附接到所述放电容器的外壁的至少一个第一低压接地电 极和附接到所述放电容器的内壁的至少一个第二高电压电极。

8.如权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第一低压电极包 括所述工艺流体，所述工艺流体是导电的。

9.如权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第二高电压电极 包括所述工艺流体，所述工艺流体是导电的。

10.如权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述内部电极具有 不透光特征。