[发明专利]隐形眼镜用液体制剂及使用该液体制剂的隐形眼镜亲水化处理方法

权利要求书

1.一种隐形眼镜用液体制剂，其特征在于，以0.0001～5w/v％的比例含有由N-对乙烯基苄基-D-内酯酰胺和能与其共聚的至少一种单体形成的共聚物。

2.如权利要求1所述的隐形眼镜用液体制剂，其中，所述共聚物是由下述式(1)～(4)表示的共聚物中的一种，

式中，m₁∶n₁＝9∶1～1∶9，x为0～3的整数，另外，-Y-是单键或-NHCO-、-NHCONH-、-CONH-、-OCONH-、-NHCOO-、-OCO-、-COO-、-CO-或-NH-所表示的原子团，

进而，R₁为下述(a)、(b)中的任一个，

(a)碳原子数为5～10、饱和或不饱和的i)单环、ii)二环或iii)含有O原子、S原子或N原子的五元杂环或六元杂环，所述单环、二环、五元杂环及六元杂环的至少一部分无取代或被选自卤原子、羟基、氨基、硫醇基、氰基、环戊基、环己基、苯基及乙酰基中的一个以上基团取代，

(b)碳原子数为1～20的烷基、或由通式：-O-C_αH_2α+1、-S-C_αH_2α+1、-NH-C_αH_2α+1表示的原子团，所述通式中的α均为1～20的整数，上述烷基及原子团的至少一部分无取代或被选自卤原子、羟基、氨基、硫醇基、氰基、环戊基、环己基、苯基及乙酰基中的一个以上基团取代，

式中，m₂∶n₂＝9∶1～1∶9，R₁与式(1)相同，

式中，m₃∶n₃＝9∶1～1∶9，

式中，m₄∶n₄＝9∶1～1∶9，L1、L2、L3分别独立地为0或1，另外，R₂、R₃、R₄分别相互独立，是碳原子数为1～20的烷基或由通式：-O-C_βH_2β+1、-S-C_βH_2β+1、-NH-C_βH_2β+1表示的原子团，所述通式中的β均为1～20的整数，所述烷基及原子团的至少一部分无取代或被选自卤原子、羟基、氨基、硫醇基、氰基、环戊基、环己基、苯基及乙酰基中的一个以上基团取代，

进而，-R₅-为下述(a)、(b)中的任一个，

(a)单键或-NHCO-、-NHCONH-、-CONH-、-OCONH-、-NHCOO-、-OCO-、-COO-、-CO-、-NH-或-O-表示的原子团，

(b)通式：-C_γH_2γ-、-O-C_γH_2γ-、-C_γH_2γ-O-、-S-C_γH_2γ-、-C_γH_2γ-S-、-NH-C_γH_2γ-、-C_γH_2γ-NH-表示的原子团，所述通式中的γ均为1～20的整数，所述原子团的至少一部分无取代或被选自卤原子、羟基、氨基、硫醇基、氰基、环戊基、环己基、苯基及乙酰基中的一个以上基团取代。

3.如权利要求1或2所述的隐形眼镜用液体制剂，其中，以0.001～10w/v％的比例含有非离子型表面活性剂。

4.如权利要求1或2所述的隐形眼镜用液体制剂，其中，以0.001～10w/v％的比例含有阴离子型表面活性剂、阳离子型表面活性剂及两性表面活性剂中的任一种。

5.如权利要求1或2所述的隐形眼镜用液体制剂，其中，还含有缓冲剂、等渗剂、增稠剂及杀菌剂中的至少任一种。

6.一种隐形眼镜的亲水化处理方法，其特征在于，使用权利要求1或2所述的隐形眼镜用液体制剂，使所述隐形眼镜用液体制剂与隐形眼镜接触。

7.如权利要求6所述的隐形眼镜的亲水化处理方法，其特征在于，使所述隐形眼镜浸渍在所述隐形眼镜用液体制剂中，然后对所述隐形眼镜实施冲洗处理。