[发明专利]硅氧烷树脂、硅氧烷组合物和涂布的基底有效
申请号: | 200780026679.X | 申请日: | 2007-06-13 |
公开(公告)号: | CN101490137A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 朱弼忠 | 申请(专利权)人: | 陶氏康宁公司 |
主分类号: | C08G77/48 | 分类号: | C08G77/48;C09D183/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张 钦 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅氧烷 树脂 组合 基底 | ||
相关申请的交叉参考
根据35U.S.C.§119(e),本申请要求2006年7月27日 提交的美国临时专利申请序列号No.60/833,647的权益,美国临时专 利申请序列号No.60/833,647在此通过参考引入。
发明领域
本发明涉及硅氧烷树脂,和更特别地涉及包括二甲硅烷氧 烷基单元的硅氧烷树脂。本发明也涉及到包含硅氧烷树脂的硅氧烷组 合物,和包括硅氧烷树脂的固化产物或氧化产物的涂布的基底。
发明背景
由乙硅烷制备硅氧烷材料在本领域中已是众所周知的。例 如,Chassot的美国专利736,971公开了生产在其分子中同时包含 -Si-Si-和Si-O-Si-键的有机基硅树脂的方法,其包括使通式 (CH3)mSinXp的有机基聚硅氧烷经历水解并且同时缩合,其中X代表 可水解基团,n是大于1的整数,和m,p和n通过等式m+p=2n+2关联。
Porte的美国专利4,618,666公开了包含乙硅烷重复单元 的有机基硅树脂,其包括有机基氯硅烷和有机基氯乙硅烷的混合物在 非均质溶剂介质中同时发生水解和缩合反应得到的反应产物。
Albert等人的德国专利公布DE 4,033,157A的德温特世界 专利索引摘要公开了生产可溶性甲基烷氧基聚(二甲硅烷基)硅氧烷, 其中包括单步骤烷氧基化和水解包括由甲基氯硅烷合成得到的含乙硅 烷的蒸馏残余物(A)或分离的乙硅烷(A′)。使(A)或(A′)与浓盐酸(其 提供与起始原料中的Si-Cl含量等摩尔的水)和低级烷醇组成的水解 介质在与所述介质不混溶的惰性有机溶剂的参与下进行回流反应。(A) 或(A′)与醇的重量比为1∶0.5-1∶4,和(A)或(A′)与溶剂的重量比 为1∶9-1∶0.2。
尽管前面引述的参考文献公开了由乙硅烷制备硅氧烷材料 的方法,但是仍需要生产可固化的、基本上不含凝胶、和高度可溶于有 机溶剂的硅氧烷树脂的方法。
发明概述
本发明涉及具有下列通式的硅氧烷树脂: [O(3-a)/2R1aSi-SiR1bO(3-b)/2]v(R13SiO1/2)w(R12SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z(I),其中各R1独立地是氢、烃基或取代的烃基;a是0、1或2; b是0、1、2或3;0.01≤v<0.3;w为0-0.8;x为0-0.99;y为0-0.99; z为0-0.99;和v+w+x+y+z=1。
本发明也涉及具有下列通式的硅氧烷树脂: [O(3-a)/2R1aSi-SiR1bO(3-b)/2]v′(R13SiO1/2)w′(R12SiO2/2)x′(R1SiO3/2)y′(S iO4/2)z′(II),其中各R1独立地是氢、烃基或取代的烃基;a是0、1 或2;b是0、1、2或3;0.7<v′≤1.0;w′为0-0.3;x′为0-0.3;y′ 为0-0.3;z′为0-0.3;和v′+w′+x′+y′+z′=1。
本发明还涉及包括从上述硅氧烷树脂中选取的硅氧烷树脂 和有机溶剂的硅氧烷组合物。
本发明进一步涉及包括基底和在基底上的涂层的涂布的基 底,其中所述涂层是硅氧烷树脂的固化产物或氧化产物,所述硅氧烷 树脂选自至少一种具有通式(I)的硅氧烷树脂,至少一种具有通式(II) 的硅氧烷树脂,和包括上述树脂的混合物。
本发明的硅氧烷树脂可溶于多种有机溶剂中,并且基本上 不含凝胶。而且,所述硅氧烷树脂可以固化产生与多种基底具有良好 粘合性的涂层。
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