[发明专利]用于制造二氧化氯的构型无效
申请号: | 200780026831.4 | 申请日: | 2007-05-21 |
公开(公告)号: | CN101516770A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | 约瑟夫·卡勒瑞 | 申请(专利权)人: | 约瑟夫·卡勒瑞 |
主分类号: | C01B11/02 | 分类号: | C01B11/02 |
代理公司: | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑 立 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 氧化 构型 | ||
1.一种制造二氧化氯的方法,所述方法包括:
将用于制造二氧化氯的一种或多种反应物引入反应室以形成反应混 合物;和
使所述反应混合物经受下列处理中的一个或多个,所述处理包括:
(a)使所述反应混合物暴露于偏振的紫外辐射;
(b)提供电动场(EMF);以及
(c)在一个或多个连续室中执行反应;
以制造二氧化氯。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述反应混合物包括氯气和氧气。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述反应混合物包括选自由 NaClO2、NaClO3、HClO2和HClO3构成的组的反应物。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述UV辐射是间歇脉冲的,使 得两个连续脉冲之间有暂停。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述偏振的紫外辐射是至少75% 偏振。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述偏振的紫外辐射是至少95% 偏振。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述偏振的紫外辐射包括约 200nm~约400nm范围内的波长。
8.如权利要求1所述的方法,其中产生强度在约1000μw/cm2~约 60,000μw/cm2的所述偏振的紫外辐射。
9.如权利要求1所述的方法,其中在所述反应室内的所述反应物暴 露于偏振的紫外辐射下约1分钟~约60分钟。
10.如权利要求1所述的方法,其中周期性地收回由所述反应所得 的二氧化氯以加速二氧化氯的形成。
11.如权利要求1所述的方法,其中将由所述紫外辐射所得的二氧 化氯从反应空间取出并引入水中以形成亚氯酸。
12.如权利要求1所述的方法,其中所述反应室包括盘管构型。
13.如权利要求1所述的方法,其中通过紫外灯施加所述EMF。
14.如权利要求1所述的方法,其中通过所述反应室外部的电场或 磁场施加所述EMF。
15.如权利要求1所述的方法,其中通过搅拌器加速反应。
16.一种同时制造二氧化氯和灭菌水的方法,所述方法包括:
将用于制造二氧化氯的一种或多种反应物引入反应室以形成反应混 合物,被暴露于紫外辐射,其中所述反应混合物包括同延的盘管构型, 所述同延的盘管构型包括第一和第二盘管;和
同时使待灭菌的水在所述第二盘管内流动,使得从所述反应室内所 述第一盘管制造的二氧化氯引入所述第二盘管。
17.如权利要求16所述的方法,其中还通过使空气或氧经用于制造 二氧化氯的一个或多个紫外灯流动产生臭氧来实施灭菌。
18.如权利要求16所述的方法,其中所述紫外辐射被偏振。
19.如权利要求1或16所述的方法,其中通过减少紫外辐射的散射 来加速二氧化氯的制造。
20.如权利要求19所述的方法,其中通过使所述反应物下沉到所述 反应室底部或通过持续搅动所述反应混合物来减少散射。
21.一种用于制造二氧化氯的系统,其包括:
反应室,其包括一个或多个连续室,以接收一种或多种用于形成二 氧化氯的反应物;
紫外辐射源,安置于所述反应室内或与所述反应室相邻;
偏振器,用于偏振所述紫外辐射,安置所述偏振器使得来自所述紫 外源的所述UV辐射经过所述偏振器;和
出口元件,回收在所述反应室内制造的二氧化氯。
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