[发明专利]用于使移动的基板上的薄膜图案化的方法及工具

权利要求书

1.一种用来自脉冲激光束(3，10)的辐射直接对基板(1，5)上的薄膜(2)进行烧蚀 从而在薄膜中形成有规律地重复的图案的方法，其特征在于，使辐射束(3，10)穿过 用于描绘该图案的合适的掩模(7)，通过合适的投影透镜(8)将掩模图案的图像缩小 到薄膜(2)的表面上，使得薄膜处的能量密度足够高以使薄膜(2)经烧蚀而被直接除 去，执行以下印刻步骤：

(i)在一连串重复的不连续的激光烧蚀步骤中，使用掩模(7)，掩模(7)相对于投 影透镜(8)是静止的而且只代表基板(1，5)的整个区域的一小块区域，并且在每一个 步骤中使用单一短脉冲辐射(3)来照明掩模(7)，辐射脉冲在基板(1，5)处的能量密度 高于用于烧蚀薄膜(2)的阀值；以及

(ii)通过沿着与将要在基板上形成的图案的一个轴相平行的方向(X1)移动 激光束(3，10)或基板(1，5)并且当基板(1，5)或激光束(3，10)已移动了一段相当于 基板(1，5)上重复的图案的整倍数周期的距离时立即激活脉冲激光掩模照明光 源，在基板(1)的整个表面区域上重复上述一连串的不连续的激光烧蚀步骤，从 而给出包含多个像素的完整图案。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在印刻期间，在平行于基板(1，5)或 激光束(3，10)移动方向的方向(X1)中，基板处被照明的区域的尺寸是足够大的，以 便当基板在被照明的区域下面穿过之后，薄膜的每一个部分都接收到足够数量的 脉冲辐射从而将它完全烧蚀。

3.如前述任一项权利要求所述的方法，其特征在于，印刻期间利用光学投影 系统(8)将掩模图案转移到基板(1，5)上。

4.如前述任一项权利要求所述的方法，其特征在于，脉冲激光束的源是UV准 分子激光器。

5.如权利要求1、2或3所述的方法，其特征在于，脉冲激光束的源是IR固态 激光器。

6.如前述任一项权利要求所述的方法，其特征在于，在印刻期间，基板(1，5) 上待烧蚀的区域的边缘是由可移动的刀片(11)限定的，刀片(11)被定位在靠近掩模 (7)的表面之处(9)。

7.如前述任一项权利要求所述的方法，其特征在于，在移动的激光烧蚀处理 期间或之后，使掩模(7)在适当的时间移动，以允许将要被印刻在基板(1，5)上的图 案具有非重复的边界区域。

8.如前述任一项权利要求所述的方法，其特征在于，基板(1，5)是以一连串平 行的条带来烧蚀的，在这些条带交迭的区域处照明辐射的剂量是利用图像形成掩 模来控制的，该图像形成掩模在掩模图案的每一侧具有梯状或不规则的透射分布， 该梯状或不规则特征对应于FPD阵列中的一个或多个完整的单元。

9.一种激光烧蚀工具，其特征在于，它适合于实施前述任一项权利要求所述 的方法。

10.一种产品，其特征在于，它由前述权利要求1至8中的任一项所述的方法 制成。