[发明专利]基于散射辐射分数的X-射线探测器增益校准有效

专利信息
申请号: 200780027404.8 申请日: 2007-07-10
公开(公告)号: CN101489486A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: J·蒂默;P·G·范德哈尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 基于 散射 辐射 分数 射线 探测器 增益 校准
【权利要求书】:

1.一种用于确定表示二维X-射线探测器(115,215,315)的增益系 数的增益数据集的方法,所述方法包括以下步骤:

提供表示第一X-射线图像(G(x,y))的第一增益数据集,所述第一 X-射线图像(G(x,y))由直射的X-辐射(307a)产生,所述直射的X-辐 射(307a)从X-射线源(105,205,305)发射并且在不存在预定对象(110, 210,310)的情况下由所述X-射线探测器(115,215,315)探测;

获得表示第二X-射线图像的第二增益数据集,所述第二X-射线图像基 于散射的X-辐射(307b),所述散射的X-辐射(307b)从所述X-射线源(105, 205,305)发射并且在存在所述预定对象(110,210,310)的情况下由所 述X-射线探测器(115,215,315)探测,其中,获得第二增益数据集包 括通过使用由所述X-射线探测器(115,215,315)所探测的散射的X-辐 射与由所述X-射线探测器(115,215,315)所探测的总的X-辐射相比较 的分数而估计所述第二增益数据集;以及

使所述第一增益数据集与所述第二增益数据集结合以给出所述增益数 据集。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,

结合防散射栅(316)来使用所述X-射线探测器(115,215,315)。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,

所述获得第二增益数据集的步骤包括:

通过对所述预定对象(110,210,310)的实验记录而获取所述第二增 益数据集,其中防止直射的X-辐射(307a)撞击到所述X-射线探测器(115, 215,315)上。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,

利用在预定的感兴趣的区域内平均所述散射的X-辐射的强度来确定所 述分数。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,

所述第二增益数据集包括表示同质的第二X-射线图像的一致像素值。

6.根据利要求5所述的方法,其中,

利用平均程序获得所述一致像素值,在所述第一X-射线图像和/或所述 第二X-射线图像内执行所述平均程序。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,

所述使所述第一增益数据集与所述第二增益数据集结合的步骤包括:

使所述第一增益数据集与所述第二增益数据集相加。

8.根据利要求7所述的方法,其中,

所述使所述第一增益数据集与所述第二增益数据集相加的步骤包括:

考虑具有第一加权因数的所述第一增益数据集,所述第一加权因数表 示所述直射的X-辐射(307a)与撞击到所述X-射线探测器(115,215,315) 上的所述总的辐射相比较的分数;并且

考虑具有第二加权因数的所述第二增益数据集,所述第二加权因数表 示所述散射的X-辐射(307b)与撞击到所述X-射线探测器(115,215,315) 上的所述总的辐射相比较的分数。

9.根据利要求1所述的方法,还包括以下步骤:

获取表示所述预定对象(110,210,310)的X-射线图像的第三数据 集,所述预定对象被插入在所述X-射线源(105,205,305)和所述X-射 线探测器(115,215,315)之间;以及

通过将所述第三数据集除以所述增益数据集而获得表示所述预定对象 (110,210,310)的增益校正图像的增益校正数据集。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,

所述获得的X-射线图像用于所述预定对象(110,210,310)的三维 重构。

11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述二维X-射线探测器(115, 215,315)是用于医学X-射线成像的二维X-射线探测器阵列(115,215, 315)。

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