[发明专利]反射率推定方法

权利要求书

1.一种反射率推定方法，使入射光L以预定入射角θ入射到被测定面上的入射点P时，该入射光L在入射面A内镜反射后的镜反射光S、和该入射光L在该入射点P反射并被接受的反射光V构成的角作为变角α，推定位于该入射面A内和入射面A外的任意变角的反射率，其特征在于包括：

第1反射率测定工序，测定使入射光L在所述入射面A内以入射角θ入射到所述入射点P并在该入射面A内以预定变角α₁，α₂，...接受光时的、位于该入射面A内的第1反射光V_a1，V_a2，...相对该入射光L的第1反射率R(α_a1)，R(α_a2)，...；

第1轨迹取得工序，将所述入射光L和各个所述第1反射光V_a1，V_a2，...的二等分矢量分别作为第1二等分矢量H_a1，H_a2，...，并且将所述第1反射率R(α_a)的大小定义为|H_a|＝|R(α_a)|，根据所述第1反射率R(α_a1)，R(α_a2)，...的测定结果，求作为在所述入射面A内二维位移曲线的、该第1二等分矢量H_a1，H_a2，...的终点的第1轨迹l，所谓二等分矢量，是指朝向入射光矢量和反射光矢量构成的角度的半角方向的矢量；

第2反射率测定工序，测定使所述入射光L在所述入射面A内以所述入射角θ入射到所述入射点P并在该入射面A外以所述变角α₁，α₂，...接受光时的、位于该入射面A外的第2反射光V_b1，V_b2，...相对该入射光L的第2反射率R(α_b1)，R(α_b2)，...；

第2轨迹取得工序，将所述入射光L和各个所述第2反射光V_b1，V_b2，...的二等分矢量分别作为第2二等分矢量H_b1，H_b2，...，并且将所述第2反射率R(α_b)的大小定义为|H_b|＝|R(α_b)|，根据所述第2反射率R(α_b1)，R(α_b2)，...的测定结果，求作为在所述入射面A外三维位移曲线的、该第2二等分矢量H_b1，H_b2，...的终点的第2轨迹m；

2交点坐标取得工序，在假想某空间内的正交坐标P-xyz时，求与z轴垂直的平面z＝z_i和所述第1轨迹l以及所述第2轨迹m的交点Q_li(x_li，0，z_i)和Q_mi(x_mi，y_mi，z_i)，该空间具有均以所述入射点P为原点且相互正交的x轴、y轴和z轴，并且所述被测定面为xy平面，而且包含该入射点P的xz平面为所述入射面A；

求近似模型方程式的模型方程式取得工序，根据所述交点Q_li和Q_mi，以表示通过该交点Q_li和Q_mi的平滑曲线的数学方程式，将所述平面z＝z_i上的二等分矢量H_i的终点轨迹n(x，y，z_i)近似模型化而得到该近似模型方程式；和

全体轨迹取得工序，设z_i＝0～∞，根据所述近似模型方程式，近似求所述第1反射光V_a以及所述第2反射光V_b之外的反射光V′和所述入射光L的二等分矢量H′的终点全体的全体轨迹n′(x，y，z)，

所述变角α₁，α₂，...包含至少一个从被设定在0～90度范围内的N个代表性N个变角中选择的变角，其中，1≤N≤89，

针对与位于0～90度范围内的多个入射角θ＝θ₁，θ₂，...相应的入射光L＝L₁，L₂，...中的每一入射光，重复实施所述第1反射率测定工序、所述第1轨迹取得工序、所述第2反射率测定工序、所述第2轨迹取得工序、所述2交点坐标取得工序、所述模型方程式取得工序和所述全体轨迹取得工序。