[发明专利]硅溶胶及其制造方法有效
申请号: | 200780027760.X | 申请日: | 2007-07-25 |
公开(公告)号: | CN101495409A | 公开(公告)日: | 2009-07-29 |
发明(设计)人: | 増田范生;太田晋辅 | 申请(专利权)人: | 扶桑化学工业股份有限公司 |
主分类号: | C01B33/148 | 分类号: | C01B33/148 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅溶胶 及其 制造 方法 | ||
1.一种采用醇盐法制造的硅溶胶,至少包括:
分散剂和二氧化硅,其中
所述分散剂相对于二氧化硅的浓度为10~3000ppm;
所述分散剂由一种或多种化合物组成,所述化合物从硫酸、硝酸、硫酸铵、硝酸铵、柠檬酸,安息香酸、安息香酸铵、柠檬酸三铵、柠檬酸二氢铵和四甲基柠檬酸铵中选取;
所述硅溶胶的溶剂为水;
所述硅溶胶具有1ppm或更低的金属杂质浓度及20%或更高重量百分比的二氧化硅浓度。
2.根据权利要求1所述的硅溶胶,其中:
所述二氧化硅具有20nm或更小的一次颗粒尺寸;
所述分散剂相对于二氧化硅的浓度为10~1350ppm。
3.一种硅溶胶的制造方法,包括:
(1)反应步骤,包括采用醇盐法对烷氧基硅烷进行水解和浓缩聚合,以获得硅溶胶的反应液;
(2)分散剂添加步骤,包括向所述反应液中添加分散剂,使得相对于二氧化硅的分散剂浓度为10~3000ppm,其中所述分散剂由一种或多种化合物组成,所述化合物从硫酸、硝酸、硫酸铵、硝酸铵、柠檬酸,安息香酸、安息香酸铵、柠檬酸三铵、柠檬酸二氢铵和四甲基柠檬酸铵中选取;
(3)浓缩步骤,包括浓缩所述反应液,以获得浓缩液,其中包含的二氧化硅等于或多于从所述步骤(2)获得的反应液中的二氧化硅;以及
(4)置换步骤,包括对所述浓缩液进行水置换,使得所述硅溶胶具有1ppm或更低的金属杂质浓度及20%或更高重量百分比的二氧化硅浓度。
4.根据权利要求3所述的硅溶胶的制造方法,其中:
从所述步骤(1)获得的反应液中的二氧化硅具有20nm或更小的一次颗 粒尺寸;以及
在所述步骤(2)中添加到所述反应液中的分散剂相对于所述二氧化硅的浓度为10~30ppm。
5.一种硅溶胶的制造方法,包括:
(1)反应步骤,包括采用醇盐法对烷氧基硅烷进行水解和浓缩聚合,以获得硅溶胶的反应液;
(2)分散剂添加步骤,包括向所述反应液中添加分散剂,使得相对于二氧化硅的分散剂浓度为10~3000ppm,其中所述分散剂由一种或多种化合物组成,所述化合物从硫酸、硝酸、硫酸铵、硝酸铵、柠檬酸,安息香酸、安息香酸铵、柠檬酸三铵、柠檬酸二氢铵和四甲基柠檬酸铵中选取;
(3)浓缩步骤,包括浓缩所述反应液,以获得浓缩液,其中包含的二氧化硅等于或多于从所述步骤(2)获得的反应液中的二氧化硅;
(4)置换步骤,包括对所述浓缩液进行水置换;以及
(5)额外的分散剂添加步骤,包括进一步向从所述步骤(4)获得的水置换浓缩液中添加分散剂,使得相对于二氧化硅的分散剂浓度为10~3000ppm,并使所述硅溶胶具有1ppm或更低的金属杂质浓度及20%或更高重量百分比的二氧化硅浓度。
6.根据权利要求5所述的硅溶胶的制造方法,其中:
从所述步骤(1)获得的反应液中的二氧化硅具有20nm或更小的一次颗粒尺寸;
在所述步骤(2)中添加到所述反应液中的分散剂相对于所述二氧化硅的浓度为10~30ppm;以及
在所述步骤(5)中进一步添加到所述水置换浓缩液中的分散剂相对于所述二氧化硅的浓度为10~1320ppm。
7.根据权利要求3所述的硅溶胶的制造方法,其中所述分散剂的分解温度和沸点均等于或高于所述步骤(3)中的浓缩液和/或所述步骤(4)中经 水置换的浓缩液的最高温度。
8.根据权利要求4所述的硅溶胶的制造方法,其中所述分散剂的分解温度和沸点均等于或高于所述步骤(3)中的浓缩液和/或所述步骤(4)中经水置换的浓缩液的最高温度。
9.根据权利要求5所述的硅溶胶的制造方法,其中所述分散剂的分解温度和沸点均等于或高于所述步骤(3)中的浓缩液和/或所述步骤(4)中经水置换的浓缩液的最高温度。
10.根据权利要求6所述的硅溶胶的制造方法,其中所述分散剂的分解温度和沸点均等于或高于所述步骤(3)中的浓缩液和/或所述步骤(4)中经水置换的浓缩液的最高温度。
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