[发明专利]塑料复合膜

权利要求书

1.含有以下叠置层的塑料复合膜：

a)塑料制的基膜，

b)金属箔，和

c)功能塑料层，

其特征在于在层b)金属箔上至少面对层c)，和/或在层c)功能塑料层 上面对层b)金属箔，和/或在功能塑料层内设置至少一个0.1-1000nm(纳米) 厚的通过物理沉积工艺涂覆的金属保护层。

2.权利要求1的塑料复合膜，特征在于所述金属保护层的厚度为 2-100nm，优选地5-50nm，特别是40nm。

3.权利要求1和2的塑料复合膜，特征在于所述金属保护层是通 过真空蒸发工艺或通过溅射产生的金属保护层。

4.权利要求1-3的塑料复合膜，特征在于所述金属保护层为锆层、 钛层或锌层，优选为铬层。

5.权利要求1-4的塑料复合膜，特征在于所述塑料基膜为15-25μm 厚的取向聚酰胺层、12-23μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯层或由两个各 为15-25μm厚的取向聚酰胺层构成的层，所述金属箔由铝构成，为 45-60μm厚，所述金属保护层由铬构成，厚度为40nm，所述功能塑料 层由15μm厚的取向聚酰胺与30-50μm厚的共挤出聚丙烯的层构成，或 由12μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯与50μm厚的共挤出聚丙烯的层构 成，或由15μm厚的取向聚酰胺与30μm的共挤出聚乙烯的层构成，或 由20μm厚的取向聚丙烯与20-50μm厚的共挤出聚丙烯的层构成。

6.使用权利要求1的塑料复合膜的电池模块、优选锂离子聚合物 电池和锂聚合物电池的电池包层。

7.权利要求6的电池包层，其利用冷成型的塑料复合膜。

8.制造权利要求1的塑料复合膜的方法，特征在于利用物理沉积 工艺在层b)金属箔至少一个表面上至少面对层c)，和/或在层c)功能塑 料层上面对层b)金属箔，和/或在功能塑料层内涂覆至少一层 0.1-1000nm(纳米)厚的金属保护层。

9.权利要求8的制造方法，特征在于所述金属保护层通过真空蒸 发工艺或通过溅射沉积在所述金属箔的至少一个表面上。

10.权利要求8和9的制造塑料复合膜的方法，特征在于所述金属 保护层的沉积厚度为2-100nm，优选5-50nm，特别是40nm。

11.权利要求8-10的制造塑料复合膜的方法，特征在于锆或钛， 优选铬，被沉积作为所述金属保护层。

12.权利要求8-11的制造塑料复合膜的方法，特征在于所述金属 保护层的涂覆是通过铬沉积工艺进行的，其中与金属箔b)相连的基膜 a)或功能层c)在真空室内经受在氧等离子体中的等离子体处理，然后 暴露于通过电子束蒸发产生的含铬蒸气云中，且铬层沉积在所述箔膜或 层上。