[发明专利]涂敷方法及涂敷装置有效

专利信息
申请号: 200780028398.8 申请日: 2007-07-05
公开(公告)号: CN101495244A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 稻益寿史;池田文彦;篠崎贤哉;大塚庆崇 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C13/02;B05D1/26;B05D1/42;B65G49/05;B65G51/03;H01L21/67
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温大鹏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 方法 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及以上浮输送方式在被处理基板上形成处理液的涂敷膜 的涂敷方法及涂敷装置。

背景技术

在LCD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光刻工序中,经常采 用无旋转涂敷法,即,使具有狭缝状排出口的长条形的抗蚀剂喷嘴扫 描而在被处理基板(玻璃基板等)上涂敷抗蚀剂液。

作为这种无旋转涂敷法的一个形式,例如如专利文献1所公开的 那样,公知有下述的上浮输送方式,即,将用于支承基板的工作台构 成为上浮式,在使基板在工作台上浮于空中的状态下沿水平的一个方 向(工作台长度方向)输送基板,在输送途中的预定位置从设于工作 台上方的长条形抗蚀剂喷嘴朝向从正下方的基板排出带状的抗蚀剂 液,由此,将抗蚀剂液从基板上的一端涂敷到另一端。

对于这种上浮输送方式,为了使基板上浮,不仅在工作台上表面 的整个区域中,以预定的密度设置多个喷出高压或者正压气体例如空 气的喷出口,而且在基板输送方向上,在抗蚀剂喷嘴的正下方和遍及 其前后的一定范围的工作台上表面的涂敷区域中,以预定的密度设置 多个混合存在于喷出口中并以负压吸入空气的吸引口,控制对通过涂 敷区域的基板从喷出口施加的垂直向上的压力与从吸引口施加的垂直 向下的压力的平衡,从而对基板施加精确的上浮压力。通常,喷出口 和吸引口在俯视时都具有圆孔的形状,在输送方向(X方向)及与其正 交的水平方向(Y方向)上以一定间隔呈格子状或矩阵状配置。

这种上浮输送方式与以往一般的喷嘴移动方式,即,将基板固定 在吸附式的工作台上、通过一边使长条形抗蚀剂喷嘴在其上方沿水平 方向移动一边排出带状的抗蚀剂液从而将抗蚀剂液从基板上的一端涂 敷到另一端的方式相比较,能够在将长条形抗蚀剂喷嘴固定的状态下 进行涂敷扫描,因此有利于基板的大型化(即,增大抗蚀剂喷嘴的重 量、厚度、长度)。

专利文献1:日本特开平2005-244155

然而,在采用上浮输送方式的现有抗蚀剂涂敷装置中,在基板通 过喷出口和吸引口混合存在的抗蚀剂涂敷区域时,在基板的前端基本 完全覆盖各喷出口或各吸引口的瞬间,从该喷出口或各吸引口受到的 排出压力或吸气压力急剧地变动,从而基板产生铅直方向的振动,并 且,在基板的后端使各喷出口或各吸引口敞开于大气中的瞬间,从该 喷出口或各吸引口受到的排出压力或吸气压力也急剧地变动,从而基 板产生铅直方向的振动。其结果是,在形成于基板上的抗蚀剂涂敷膜 的两端部(基板前端部和后端部),在输送方向上隔开一定间隔呈现条 纹状的多条线。即,产生条纹状的涂敷不均。

对于这种条纹状的涂敷不均,存在下述倾向:越是离基板的前端 或后端近的线呈现得越浓(粗),朝向基板的中心部,线逐渐变淡(细)。 并且,条纹状的涂敷不均的间距与喷出口和吸引口在输送方向上的排 列间距成比例。因此,越减小喷出口和吸引口的排列间距,越能够使 条纹状的涂敷不均整体地靠近基板的前端侧和后端侧,但并不是绝对 没有,而且由于条纹状的涂敷不均而导致抗蚀剂涂敷膜的膜厚品质降 低的情况没有变化。

发明内容

本发明就是鉴于上述那样的现有技术的问题而完成的,其目的在 于提供在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的 处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均、从而使涂敷膜的膜厚品质 提高的涂敷方法及涂敷装置。

为了达到上述目的,本发明的涂敷装置具有:工作台,具有第一上 浮区域,该第一上浮区域中混合设置有喷出气体的多个喷出口和吸入气体 的多个吸引口;基板输送部,在使被处理基板在所述工作台上浮起的状态 下,该基板输送部使所述被处理基板沿预定的输送方向通过所述第一上浮 区域;处理液供给部,具有配置在所述第一上浮区域的上方的喷嘴,从所 述喷嘴排出所述处理液以在所述基板上供给处理液;以及长槽,以从所述 喷出口和所述吸引口中的至少一方的上端部沿相对于所述输送方向平行 或倾斜锐角角度的第一方向延伸的方式,形成于所述第一上浮区域内的所 述工作台的上表面。

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