[发明专利]过氧化氢的原位生成

权利要求书

1.用于原位制备过氧化氢的设备，所述设备包括：

具有让水进入的水入口(20)和过氧化氢出口(22)的箱体；

位于所述箱体内并与所述水入口(20)流体相通以产生氢气和 氧气的电解槽(14)，其中所述电解槽(14)包括被间隔物(44)分开的 多个电极(18)，其中所述间隔物形成沿着电极长度的通道且所述 间隔物将电极分开以形成100微米至450微米的间隙；和

位于所述箱体内和电解槽(14)和出口(22)之间、用于制备过 氧化氢的反应器(16)，其中水在水入口(20)中流动，通过所述电解 槽到达所述反应器并从出口排出。

2.权利要求1的设备，所述设备还包括位于电解槽(14)和反应器 (16)之间的氧气入口。

3.权利要求2的设备，所述设备还包括与所述氧气入口流体相 通的鼓泡器，以将氧气分散于从电解槽(14)流到反应器(16)的水中。

4.权利要求1-3中任一项的设备，所述设备还包括与电解槽(14) 流体相通的氢气出口，以将一部分氢气从所述电解槽(14)引走。

5.权利要求1-4中任一项的设备，所述设备还包括位于电解槽 (14)和反应器(16)之间的绝缘间隔物。

6.权利要求1-5中任一项的设备，其中所述电解槽(14)包括一对 电极18，所述电极制备成片，卷绕成螺旋形并形成大致圆柱形，用 间隔物(44)保持电极(18)之间的间隙。

7.权利要求1-5中任一项的设备，其中所述电极(18)基本上为具 有局部峰的材料片。

8.权利要求1-7中任一项的设备，其中所述反应器包括催化剂 和所述催化剂沉积于其上的载体。

9.权利要求8的设备，其中所述载体包括选自如下的多孔材 料：塑料、二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、碳、碳化硅、 二氧化硅-氧化铝、硅藻土、分子筛及其混合物。

10.权利要求8的设备，其中所述催化剂包括选自如下的至少一 种金属：铂、钯、钌、铑、铱、锇、金及其混合物。