[发明专利]用于从流体流去除污染物的系统和方法

权利要求书

1.一种用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系统，该污 染物去除系统包括：

其中具有催化剂的催化反应器，该催化反应器用以从流体流去除 污染物；

其中具有吸附材料的第一吸附装置，该第一吸附装置在所述流体 流方向上位于所述催化反应器的上游，并用以从所述流体流去除催化 剂去活化剂；和

其中具有吸附材料的第二吸附装置，该第二吸附装置在所述流体 流方向上位于所述催化反应器的下游，并用以去除在所述催化反应器 从所述流体流去除污染物时可能产生的不希望的副产物。

2.一种用于从空气流选择性去除污染物以改善空气质量的污染 物去除系统，该污染物去除系统包括：

其中具有催化剂的催化反应器，该催化反应器用以从空气流去除 污染物；和

其中具有吸附材料的吸附装置，所述吸附装置在所述空气流方向 上位于所述催化反应器的上游，并用以从所述空气流去除催化剂去活 化剂。

3.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器是紫 外光催化氧化装置。

4.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器中的 催化剂置于具有多个小室的蜂窝结构上。

5.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器中的 催化剂是抗去活化的。

6.权利要求1的污染物去除系统，其中所述第一吸附装置包括多 个吸附装置。

7.权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括多 个吸附装置。

8.权利要求2的污染物去除系统，其中所述吸附装置包括多个吸 附装置。

9.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂选自硅 氧烷、硅烷、其他含有硅的挥发性或半挥发性化合物及其任何组合。

10.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 氮的挥发性或半挥发性化合物。

11.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 磷的挥发性或半挥发性化合物。

12.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 硫的挥发性或半挥发性化合物。

13.权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括 催化剂。

14.权利要求1或2的污染物去除系统，其中反应性固体或催化 剂与所述吸附材料混合并应用于支持结构，或者作为层独立应用于支 持结构。

15.权利要求13的污染物去除系统，其中所述催化剂选自钯/氧 化铝、铂/氧化铝、氧化锰及其任何组合。

16.权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括 固体反应物。

17.权利要求16的污染物去除系统，其中所述固体反应物选自氧 化物、氢氧化物及其任何组合。

18.权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构进一步包 括铝。

19.权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构的小室是 波纹状的。

20.权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构的小室选 自三角形小室、六角形小室、正方形小室、梯形小室及其任何组合。

21.权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述吸附材料选自 杂多钼酸、杂多钨酸、杂多铌酸、杂多钒酸、混合的杂多氧酸、硫酸 化氧化锆、硅铝酸盐、铝硅酸盐、铝磷酸盐、硅铝磷酸盐、中孔氧化 物特别是硅酸盐、硅铝酸盐、掺杂的硅铝酸盐、氧化钛、氧化锰及其 任何组合。

22.权利要求1或2的污染物去除系统，其进一步包括测量流体 流湿度的湿度传感器，并且必要时向所述流体流添加水。