[发明专利]光刻胶组成物及其图案化方法有效
申请号: | 200780029153.7 | 申请日: | 2007-08-02 |
公开(公告)号: | CN101501570A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 成始震;李相行;金相泰 | 申请(专利权)人: | 东友精化股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿 宁 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 组成 及其 图案 方法 | ||
1.一种光刻胶组成物,其特征在于该组成物包含一酚醛型树脂A、以 该酚醛型树脂A为100重量等份为准,一30至60重量等份的重氮萘醌型 光感剂B及以该酚醛型树脂A为100重量等份为准,一10至30重量等份 的低分子物质C,其中该低分子物质C在光源为248nm、193nm和157nm 的一或多种波长时,具有吸光度低于该酚醛型树脂A的吸光度,
其中,该光刻胶组成物可在光源波长为248nm或更短时被使用,且其 中该低分子物质C是一以分子结构式1表示的化合物:
<分子结构式1>
其中R1及R2分别为羟基,
且n1是一1到5范围间的自然数。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组成物,其特征在于所述的光刻胶组 成物进一步包含一树脂D,在光源为248nm、193nm和157nm的一或多种 波长时,该树脂D具有吸光度低于该酚醛型树脂A的吸光度,且该树脂D 是一具有如分子结构式4所示的结构单元的聚羟基苯乙烯型树脂且以聚苯 乙烯为基准的重量平均分子量是落在3,000到20,000的范围:
<分子结构式4>
其中R6是氢。
3.根据权利要求2所述的光刻胶组成物,其特征在于其中所述的光刻 胶组成物以该酚醛型树脂A为100重量等份为准时,包含具有低吸光度的 树脂D的量为5至50重量等份。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组成物,其特征在于其中所述的光刻 胶组成物以甲醇稀释浓度至4×10-5%且使用紫外线/可见光光谱仪量测吸 光度时,其在光源波长为248nm时的光透射率,比在相同的条件下使用紫 外线/可见光光谱仪量测不含具有低吸光度的低分子物质的光刻胶组成物 的吸光度时其在光源波长为248nm时的光透射率,增加了10到35%。
5.根据权利要求1所述的光刻胶组成物,其特征在于所述的光刻胶组 成物为一非化学增幅型光刻胶。
6.一种光刻胶组成物的图案化方法,其特征在于其包括以下步骤:
涂布权利要求1至5中任何一项的该光刻胶组成物;将一部份的光刻 胶组成物层对具有主要波长为248nm或更短的光源曝光;以及移除该光刻 胶组成物层的已曝光部分或未曝光部分。
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