[发明专利]脱污流体及其使用方法

权利要求书

1.一种包括金属纳米粒子和氧化剂的脱污流体，其中如果所述纳米粒 子是氧化铁，则所述氧化剂不是O₂或H₂O₂。

2.权利要求1的脱污流体，其中所述金属带电荷，而所述纳米粒子的 总净电荷为零。

3.权利要求1的脱污流体，其中所述纳米粒子为氧化铁、氧化钛、碳 化钛、氧化铜、氧化锌、氮化硅、氧化铈、硫化锌、氮化钛或其任何组合。

4.权利要求1的脱污流体，其中所述氧化剂为过氧化物、铬酸盐、氧、 臭氧、氯酸盐、过氯酸盐、电子受体、或其任何组合。

5.权利要求4的脱污流体，其中所述氧化剂为过氧化氢。

6.权利要求1的脱污流体，其中所述流体为水溶液。

7.权利要求1的脱污流体，其中所述纳米粒子具有约1～1000nm的直 径。

8.一种脱污方法，该方法包括用包括带电荷金属的纳米粒子接触包括 污染物的流体，其中所述接触在有氧条件下进行，并且接触时间足以氧化 所述污染物，形成无毒性的化合物，从而对所述流体脱污。

9.权利要求8的方法，其中所述污染物为化学污染物、生物污染物、 废水、烃、工业废液、城市或家庭废液、含硫废液、金属、农用化学品、 除草剂、药物或其任何组合。

10.权利要求8的方法，其中所述纳米粒子为氧化铁、氧化钛、碳化钛、 氧化铜、氧化锌、氮化硅、氧化铈、硫化锌、氮化钛或其任何组合。

11.权利要求8的方法，其中所述溶液为水溶液。

12.权利要求8的方法，其中所述纳米粒子的浓度为约0.001％～1％ w/w。

13.权利要求8的方法，其中所述污染物在所述流体中的浓度为约 0.01μM～1M。

14.权利要求8的方法，其中所述方法在周围环境条件下进行。

15.权利要求8的方法，其中所述金属纳米粒子固载在固体表面上。

16.权利要求15的方法，其中所述固体表面为金属表面、半导体、透 明表面、不透明表面、特氟龙、硅、硅氧化物、玻璃、石英、透明导电氧 化物、聚合物、膜、矿物、天然材料或分离的表面。

17.权利要求15的方法，其中所述固体表面为珠粒、管、纤维、或表 面。

18.权利要求8的方法，其中所述纳米粒子嵌在多孔材料中。

19.权利要求18的方法，其中所述多孔材料为沸石、粘土、硅藻土或 纳米管。

20.一种脱污方法，该方法包括用金属纳米粒子和氧化剂接触包括污染 物的流体，其中所述接触在有氧条件下进行，并且接触时间足以氧化所述 污染物，形成无毒性的化合物，从而对所述流体脱污。

21.权利要求20的方法，其中所述污染物为化学污染物、生物污染物、 废水、烃、工业废液、城市或家庭废液、含硫废液、金属、农用化学品、 除草剂、药物或其任何组合。

22.权利要求20的方法，其中所述金属带电荷，而所述纳米粒子的总 净电荷为零。

23.权利要求22的方法，其中所述纳米粒子为氧化铁、氧化钛、碳化 钛、氧化铜、氧化锌、氮化硅、氧化铈、硫化锌、氮化钛或其任何组合。

24.权利要求20的方法，其中所述溶液为水溶液。

25.权利要求20的方法，其中所述氧化剂为氧、臭氧、过氧化物、铬 酸盐、氯酸盐、过氯酸盐、电子受体、或其任何组合。

26.权利要求25的方法，其中所述氧化剂为过氧化氢。