[发明专利]导光薄膜层合件无效

专利信息
申请号: 200780030529.6 申请日: 2007-08-20
公开(公告)号: CN101506720A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 詹姆斯·A·史蒂文森;帕特里克·H·马鲁申;利兰·R·惠特尼;基思·M·科奇克 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13357
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 顾红霞;何胜勇
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 层合件
【权利要求书】:

1.一种光控制薄膜组件,包括:

第一光学薄膜,其具有第一主结构化表面、以及与所述第一主结构 化表面相背对的第二主表面,所述第一主结构化表面具有被矮结构 体间隔开的多个高结构体,每个高结构体和每个矮结构体具有顶 部、以及从所述顶部到第一公共基准面测得的高度,其中每个矮结 构体的高度小于每个高结构体的高度,并且相邻高结构体的顶部间 隔开的距离在约50微米至约150微米之间;以及

第二光学薄膜,其具有第一主表面和与所述第一主表面相背对的第 二主表面,所述第二主表面设置为通过粘合剂层与所述第一光学薄 膜的第一主结构化表面相邻并接触,其中所述第一光学薄膜的每个 高结构体穿入所述粘合剂层,而所述第一光学薄膜的矮结构体不穿 入所述粘合剂层。

2.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体的顶部 之间的距离为恒定的。

3.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体的顶部 之间的距离为变化的。

4.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体的顶部 之间的距离在约90微米至约150微米之间。

5.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述矮结构体的高度 大致相等。

6.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第一光学薄膜具 有在两个高结构体之间插入一个矮结构体所形成的重复图案。

7.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第一光学薄膜具 有在两个高结构体之间插入两个矮结构体所形成的重复图案。

8.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体为棱 镜。

9.根据权利要求8所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体的顶部 大致为尖点。

10.根据权利要求8所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体的顶部 为钝的。

11.根据权利要求8所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体中的至 少一个的顶角在约70度至约110度之间。

12.根据权利要求11所述的光控制薄膜组件,其中所述顶角为约90 度。

13.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述高结构体中的至 少一个具有分段线性侧面。

14.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第二光学薄膜的 第一主表面为带有多个结构体的结构化表面,每个结构体具有顶 部、以及从所述顶部到第二公共基准面测得的高度。

15.一种多层薄膜层合件,包括权利要求14所述的光控制薄膜组件和至 少一个附加薄膜层。

16.根据权利要求14所述的光控制薄膜组件,其中所述第一公共基准面 最接近所述第一光学薄膜的第一主结构化表面,所述第二公共基准 面最接近所述第二光学薄膜的第一主表面,并且所述第二光学薄膜 的每个结构体的高度小于所述第一光学薄膜的每个高结构体的高 度。

17.根据权利要求14所述的光控制薄膜组件,其中所述第二光学薄膜的 每个结构体的宽度小于所述第一光学薄膜的每个高结构体的宽度。

18.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第二光学薄膜为 扩散片。

19.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第二光学薄膜为 反射型偏振片。

20.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述粘合剂层的厚度 在约1.0微米至约2.0微米之间。

21.根据权利要求1所述的光控制薄膜组件,其中所述第一光学薄膜的 高结构体穿入所述粘合剂层中的深度大约等于所述粘合剂层的厚 度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780030529.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top