[发明专利]带隔壁图案基板及其制造方法无效
| 申请号： | 200780030967.2 | 申请日： | 2007-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101506695A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 神永纯一;三浦洋之;池田武司;久保祐治;青木英士 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋 亭;苗 堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 隔壁 图案 及其 制造 方法 | ||
1.一种带隔壁图案基板的制造方法，
包括以下工序：
在基板上的规定位置上通过曝光、显影方法来形成隔壁图案的工序，该隔壁图案由含有氟化合物的隔壁材料制作；
对所述隔壁图案照射电离放射线的工序；
将照射电离放射线后的隔壁图案在180℃以下进行加热固化，形成隔壁的工序；
并且通过上述工序使得所形成的隔壁的上部表面，在采用飞行时间型二次离子质谱仪TOF-SIMS进行负离子分析时，M/Z＝19的F-碎片离子的检测强度占全部负离子的检测强度的比率为25％～60％。
2.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，形成的所述隔壁中，距所述基板侧的高度为90％以下的部分，采用飞行时间型二次离子质谱仪TOF-SIMS进行负离子分析时，M/Z＝19的F-碎片离子的检测强度占全部负离子的检测强度的比率为10％以下。
3.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，在形成隔壁的工序之后还具有采用着色油墨来形成着色层的工序。
4.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，在形成隔壁的工序之后还具有采用着色油墨来形成着色层的工序，并且隔壁图案上没有附着着色油墨。
5.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，还包括：
在形成隔壁的工序之后，采用着色油墨来形成着色层的工序；以及
在形成所述隔壁和着色层后进行表面清洗处理的工序。
6.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，还包括：
在形成隔壁的工序之后，采用着色油墨来形成着色层的工序；以及
在形成所述隔壁和着色层后进行表面清洗处理的工序；并且，
表面清洗处理后的隔壁的上部表面，采用飞行时间型二次离子质谱仪TOF-SIMS进行负离子分析时，M/Z＝19的F-碎片离子的检测强度占全部负离子的检测强度的比率为20％以下。
7.根据权利要求1所述的带隔壁图案基板的制造方法，其特征在于，还包括：
在形成隔壁的工序之后，采用着色油墨来形成着色层的工序；以及
在形成所述隔壁和着色层后进行表面清洗处理的工序；并且，
表面清洗处理后的所述隔壁中，距所述基板侧的高度为90％以下的部分，采用飞行时间型二次离子质谱TOF-SIMS仪进行负离子分析时，M/Z＝19的F-碎片离子的检测强度占全部负离子的检测强度的比率为10％以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凸版印刷株式会社，未经凸版印刷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780030967.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
