[发明专利]光伏电池及制造该光伏电池的方法无效
申请号: | 200780031175.7 | 申请日: | 2007-08-21 |
公开(公告)号: | CN101523615A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
发明(设计)人: | 君·曼扭尔·费尔南德兹;拉菲尔·布诺;卡曼·莫利拉;因纳斯·玟库拉 | 申请(专利权)人: | BP太阳能旗舰股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/068 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 林月俊;安 翔 |
地址: | 西班牙*** | 国省代码: | 西班牙;ES |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电池 制造 方法 | ||
1.一种用于制造光伏器件的方法,所述光伏器件具有衬底,该衬底包含掺杂有第一掺杂剂的硅,所述方法包括下列步骤:
a.在所述衬底的前表面上形成第一层,所述第一层包含导电类型与第一掺杂剂相反的第二掺杂剂;
g.在所述第一层上形成第二表面涂层;
h.形成到达或者进入所述硅衬底的狭长凹槽;
i.在所述凹槽内形成第三层,该层包含导电类型与第一掺杂剂相反的第三掺杂剂;
j.形成接触指系统,所述接触指系统与所述凹槽交叉,以提供导电的前触点;以及
k.形成第二触点。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述衬底在步骤(a)之前被织构。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,其中所述第二表面涂层充当介电层、抗反射涂层、表面钝化剂、体钝化剂、扩散掩模和/或金属化扩散阻挡层中的一个或多个。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述第二表面层通过低压化学气相沉积而施加。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述第二表面层是氮化硅。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中在步骤(b)之后,从所述后表面除去任何第二表面涂层。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述凹槽沿着它们的长度具有均匀的尺寸。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中在步骤(c)之后,清洗所述凹槽。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中在步骤(c)之后,另外对所述后表面进行抛光。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中在步骤(d)之后,除去过量的所述第三层材料。
11.根据任一项前述权利要求所述的方法,其中所述接触指与所述凹槽垂直。
12.根据任一项前述权利要求所述的方法,其中所述接触指是银。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤(f)包括形成背表面场。
14.根据权利要求10所述的方法,其中在所述器件的后表面上沉积铝层并将其固化。
15.根据权利要求11所述的方法,其中所述铝层包括接触焊盘。
16.根据权利要求12所述的方法,其中所述接触焊盘是银。
17.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中在形成所述衬底之后,所述晶片的边缘被电子隔离。
18.根据前述权利要求中任一项所述的工艺而制造的光伏器件。
19.一种光伏器件,所述光伏器件包括:
a.形成在衬底的前表面上的第一层,所述第一层包含导电类型与第一掺杂剂相反的第二掺杂剂;
b.形成在所述第一层上的第二表面涂层;
c.形成在所述器件的前表面中的多个狭长凹槽,使得所述凹槽到达或者进入所述硅衬底;
d.形成在所述凹槽内的第三层,该层包含导电类型与第一掺杂剂相反的第三掺杂剂;
e.接触指系统,所述接触指系统与所述凹槽交叉,以提供导电的前触点;和
f.第二触点。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的